Anyagismeret – 2016/17
Diffúzió Dr. Mészáros István
[email protected]
Diffúzió • Különféle anyagi részecskék anyagon belüli helyváltoztatása • Az anyag lehet gáznemű, folyékony vagy szilárd
1
Diffúzió
Diffúzió - traszportfolyamat (atom, ion, fonon, elektron, hőmennyiség ...) Elektromos vezetés (Ohm)
töltés áram
elektr. potenciál grad.
Hővezetés (Fourier)
energia áram
hőmérséklet különbség
Diffúzió (Fick)
anyag áram
kémiai potenciál különbség
Kémiai reakció
anyagátalakulás
affinitás (kémiai potenciál különbség)
Diffúzió sebessége: gáz folyadék szilárd (kötőerő) Szilárdtest diffúzió → koncentráció változás Koncentráció különbség: –csökken (szokásos eset) –növekszik (szegregáció, precipitáció, getterezés)
Emelt hőmérsékletű technológiák (hőkezelés, újrakristályosítás, szinterelés, oxidáció, doppolás ...) —Öndiffúzió (rádioaktív tracer atom, Hevesy György 1943) —Interdiffúzió/koncentrációs diff. (kémiai analízis, EDS) A+B
A
koncentráció gradiens
emelt hőmérséklet atomi mozgás
konc. kiegyenlítődés IRREVERZIBILIS
2
Diffúzió szilárd állapotban 1. Öndiffúzió – saját atomok vándorlása.
Hajtóerő: a szilárdtestben lévő energiakülönbségek C A
D
B
C A
B
D
Megfigyelése: radioaktív „tracer” izotópokkal.
Diffúzió szilárd állapotban 2.
Koncentrációs diffúzió – különböző atomok vándorlása.
Hajtóerő: az anyagban lévő koncentráció-különbség.
Koncentrációs diffúzió során a koncentráció-különbség: •csökken (szokásos eset) •növekszik (szegregáció)
3
Koncentrációs diffúzió
100% 0
Cu
Ni
Koncentrációeloszlás
100% 0 Koncentrációeloszlás
A diffúzió kinetikája
Intersíciós mehanizmus H, C, N, B, O
Vakancia (csatolt) mehanizmus saját és szubsztitúciós atomok Aktiválási energia nagyobb
4
Diffúziós modellek
Statisztikai modell (Einstein) elemi atomi ugrások eredője
Rn r1 r2 rn Rn t r 2 2
: időegység alatti ugrások száma r: Intersíciós: üres rácspontok távolsága Szubsztitúciós: rácspontok távolsága
Termodinamikai modell (Onsager - Fick)
Kémiai potenciál gradiens
dm dC D A dt dx J D gradC
Fick - I.
J gradU E D: diffúziós tényező
J: tömegáram sűrűség (fluxus)
Fick - II. törvény
J: nem mérhető
Feltételezve, hogy: dD/dx = 0
d 2C d 2C d 2C dC D 2 2 2 dt dy dz dx
dC d 2C D 2 dt dx Fick - II.
5
A diffúziós tényezőt befolyásoló tényezők
D (hőmérséklet, ötvöző típusa, kristályhibák, nyomás,...)
D D0e
E kT
D D0e
E kT
ln D ln D0
D hőmérsékletfüggése D0e
W RT
n vakancia Ne
E kT
Ne
W RT
E kT
Termikusan aktivált folyamat Arrhenius - ábrázolás Extrém erős hőmérsékletfüggés.
Hőmérsékletszabályozási problémák.
6
A diffúziós tényezőt befolyásoló tényezők
D (hőmérséklet, ötvöző típusa, kristályhibák, nyomás,...)
Saját atom < Szubsztitúciós ötvöző < Interstíciós ötvöző Vakancia mehanizmus
Interstíciós mehanizmus
Ötvöző típusának hatása
Saját atom < Szubsztitúciós ötvöző < Interstíciós ötvöző Kirkendall - kísérlet / jelenség (határfelület eltolódása) Cu
Mo
Sárgaréz Cu - Zn
Cu
Zn + vakancia
Szubsztizúciós ötvöző gyorsabban diffundál mint a saját atom.
7
Diffúziós üregképződés Minden szubsztitúciós atom (Zn) visz magával egy vakanciát.
J n
i 1
i
J Cu J Zn J Vakancia 0
Vakancia csatolt mechanizmus vakanciaáram Üregek, üregsorok képződhetnek.
Nagy D különbség esetén. (Frenkel: “A semmi kikristályosodik”)
A diffúziós tényezőt befolyásoló tényezők
D (hőmérséklet, ötvöző típusa, kristályhibák, nyomás,...)
Makrofelület > Szemcse- / Fázishatár > Diszlokáció Polikristály > Egykristály
8
felületi
Kristályhibák hatása
Mindenfajta kristály rendezetlenség gyorsítja a diffúziót. szemcsehatármenti
térfogati ln D
felületi szemcsehatármenti térfogati
1/T
A diffúziós tényezőt befolyásoló tényezők
D (hőmérséklet, ötvöző típusa, kristályhibák, nyomás,...)
D D0e
E kT
Makrofelület > Szemcse- / Fázishatár > Diszlokáció Polikristály > Egykristály
Saját atom < Szubsztitúciós ötvöző < Interstíciós ötvöző Vakancia mehanizmus
Interstíciós mehanizmus
9
A végtelen félteres megoldás
Külső végeken nincs koncentráció változás. Gauss - féle hibaintegrál (improprius) Függvénytábla, iterráció -0,7 < < 0,7
C0 1 ( ) 2 x 2 D t
Durva közelítés: =
C ( x, t )
Gauss-féle hibaintegrál
2 x 2 Dt
2 exp y dy, y
0
y2
x2 4 Dt
y
Az értékek táblázatokban megtalálhatók.
10
Jellegzetes problémák
X 2 X1
t2 t1
Behatolási mélység az idő függvényében (gyökös).
Tipikus eset: oxidréteg vastagságának növekedése.
Behatolási mélység a hőmérséklet függvényében.
Alkalmazás
Tudjuk: a mintában x1 mélységben C lesz a koncentráció t idő alatt, adott T1 hőmérsékleten. Kérdés: azonos idő alatt milyen hőmérsékleten jön létre ugyanekkora koncentráció x2 mélységben?
C0 C x1 , t 1 2 2 C0 C x2 , t 1 2 2
x2 D2t
x1 D1t
11
Alkalmazás x1 Q RT 2 D0 e 1 t x1 D0 e
Q RT1
x2 Q RT 2 D0 e 2 t x2
D0 e
Q RT2
ln x1 ln x2
Q 1 1 2 R T1 T2
Extrém erős hőmérséklet függés. Zn diffundál Cu-be D0 = 8 10-5 m2/s
Q =1,59 105 J/g atom
(Behatolási mélység = 0,1 mm) (Koncentráció = 1%) T = 600 °C
T = 200 °C
Idő = 1 h
Idő = 108 h (kb. 10.000 év)
12
Q = 146 kJ/g atom R = 8,31 J/K mol
A diffúziós folyamat sebességét kétszeresére akarjuk növelni. T2 = 1,05 T1 (5 % növekedés !!)
Spiking jelenség
450 ºC hőkezelés
Gyors Si diffúzió az Al-ba Szilárd oldat Spike
Rövidzár
13
Anyagszerkezet és diffúzió kapcsolata A diffúzió gyorsabb
• kisebb térkitöltésű szerkezeteknél • kisebb olvadáspontú anyagnál • másodlagos kötésű anyagnál • kisebb diffundáló atomoknál • kationoknál • kisebb sűrűségű anyagnál • polikristályos testben • finomabb szemcséjű anyagban • intersztíciós atomoknál • Nagy számú rácshibát tartalmazó szerkezetben
A diffúzió lassúbb • legsűrűbben rakott szerkezeteknél • nagyobb olvadáspontú anyagnál • kovalens kötésű anyagnál • nagyobb diffundáló atomoknál • anionoknál • nagyobb sűrűségű anyagnál • egykristályban • durvább szemcséjű anyagban • szubsztitúciós atomoknál
27
14