Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Félvezető fizikai alapok http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/03-felvez-fiz.pptx
http://www.eet.bme.hu
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A szükséges fizikai ismeretek áttekintése ► Töltéshordozók
a félvezetőben ► Áramok a félvezetőben ► Generáció, rekombináció, folytonossági egyenletek
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
2
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Energiasávok a kristályos anyagban ► Kvantimfizikai
ismeretek, pl. Pauli elv
Diszkrét energia N db atom – N darab szintek: szintre hasadás:
Egykristályban szinte folytonos sávokká hasadnak:
Az egyedülálló atom energiaszintjei a kristályban sávokká (band) szélesednek. 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
3
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Vegyérték sáv, vezetési sáv
Áramvezetési szempontból fontos:
2014-09-19
•
a legfelső, (majdnem) teli sáv
•
a fölötte levő, (majdnem) üres sáv Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
4
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Vegyérték sáv, vezetési sáv conductance band
valance band
v – valance band / legfelső betöltött sáv c – conductance band / legalsó üres sáv
►
Vegyérték sáv – ezek az elektronok hozzák létre a kémiai kötéseket majdnem tele van
►
Vezetési sáv – ezek az elektronok áramot tudnak vezetni majdnem üres 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
5
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Elektronos és lyukak ►
Generáció: a termikus átlagenergia felhasználásával
►
Elektronok: a vezetési sáv alján
►
Lyukak: a vegyértéksáv tetején
►
Mindkettő szolgálja az áram-vezetést!
Elektron:
negatív töltés, pozitív tömeg
Lyuk:
pozitív töltés, pozitív tömeg
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
6
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Vezetők és szigetelők
Szilíciumra: Wg = 1.12 eV
SiO2-ra: Wg = 4.3 eV 1 eV = 0.16 aJ = 0.16 ⋅10-18 J
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
7
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Félvezetők sávszerkezete
indirekt direkt
1 2 W= p 2m
dP F= dt 2014-09-19
h P= k 2π
1 W= P2 2meff GaAs: direkt sáv ⇒ opto-elektronika (pl. LED-ek) Si: indirekt sáv
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
8
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Generáció / rekombináció Spontán folyamatok: termikus gerjesztés – ugrás a vezetési sávba / rekombináció: visszatérés a vegyérték sávba Î equilibrium
~~~~> ν = Wg/h
Direkt rekombináció fényemisszióval jár(hat), lásd: LED-ek
<~~~~ νh > Wg
Fényelnyelés generációt okozhat – lásd: napelemek
Kísérlet 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
9
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A szilícium kristályszerkezete ► N=14,
4 vegyérték, periódusos rendszer IV. oszlopa adalékolatlan vagy intrinsic félvezető
valós 3D
egyszerűsített 2D
► Gyémántrács,
rácsállandó a=0.543 nm ► Minden atomnak 4 legözelebbi szomszédja van 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
10
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
5 vegyértékű adalék: donor (As, P, Sb)
n-típusú félvezető Elektron: többségi töltéshordozó ► Lyuk: kisebbségi töltéshordozó ►
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
11
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
3 vegyértékű adalék: acceptor (B, Ga, In)
p-típusú félvezető Elektron: ► Lyuk: ►
2014-09-19
kisebbségi töltéshordozó többségi töltéshordozó Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
12
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Hordozókoncentrációk számítása FD-statisztika: f (W ) =
állapotok betöltési valószínűsége
lehetséges energiaállapotok
∞
n = ∫ g c (W ) f (W ) dW Wc
2014-09-19
1 ⎛ W − WF ⎞ 1 + exp⎜ ⎟ ⎝ kT ⎠
koncentrációk
Wv
p = ∫ g v (W ) [1 − f (W )] dW 0
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
13
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Adalékkoncentrációk számítása ► Az
eredény:
► Adalékolatlan
n = const T
3/ 2
p = const T
3/ 2
⎛ Wc − WF ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝ ⎛ WF − Wv ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
félvezetőre n = p = ni
az ilyet intrinsic anyagnak hívják
Wc − WF = WF − Wv Wc + Wv WF = 2 2014-09-19
= Wi
WF: Fermi-szint
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
14
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A Fermi-szint ►A
Fermi-szint formális definíciója: az az energiaszint, ahol a lehetséges állapotok betöltöttségi valószínűsége 1/2: f (W ) =
► Ez
1 = 0.5 ⎛ W − WF ⎞ 1 + exp⎜ ⎟ ⎝ kT ⎠
intrinsic anyagnál a tiltott sáv közepén van:
Wc + Wv WF = 2
► Ez
az intrinsic Fermi-szint, Wi
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
15
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Töltéshordozó sűrűségek n = const T
3/ 2
⎛ Wc − WF ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
p = const T
3/ 2
⎛ WF − Wv ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
n ⋅ p = const ⋅ T exp(− Wg / kT ) 3
► Csak
a hőmérséklettől függ, adalékolástól nem!
A "tömeghatás törvénye"
n⋅ p = n
2 i
Szilíciumra, 300 K hőmérsékleten ni = 1010 /cm3 (10 elektron egy 0.01 mm élhosszúságú kockában)
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
16
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Töltéshordozó sűrűségek ► Si,
T = 300 K, donor koncentráció ND = 10
► Mennyi
Példa 17
3
/cm
az elektron- és a lyuksűrűség értéke?
Donor adalékolás ⇒ n ≈ ND = 1017 /cm3 20 17 3 3 2 Lyuk koncentráció: p = ni /n = 10 /10 = 10 /cm ► Mekkora
az adalék atomok relatív sűrűsége?
1 cm3 Si-ban 5⋅1022 atom van tehát, 1017/ 5⋅1022 = 2⋅10-6 Az adalékolt szilícium tisztasága 0.999998 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
17
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Töltéshordozó sűrűségek n = const T
3/ 2
ni = const T
⎛ Wc − WF ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
3/ 2
⎛ Wc − Wi ⎞ exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
n ⎛ WF − Wi ⎞ = exp⎜ ⎟ ni ⎝ kT ⎠ ⎛ WF − Wi ⎞ n = ni exp⎜ ⎟ ⎝ kT ⎠ ⎛ WF − Wi ⎞ p = ni exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝ 2014-09-19
►
Csak egy alkalmas átrendezés... kT = 1.38⋅10-23 VAs/K ⋅ 300 K =4,14 ⋅10-21 J = 0.026 eV = 26 meV termikus energia Adalékolt félvezetőben a Fermi-szint eltolódik az intrinsic Fermiszinthez képest!
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
18
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Hőmérsékletfüggés ni2
=
n ⋅ p = const ⋅ T exp(− Wg / kT ) 3
Wg ⎞ d 2 2⎛ 3 ni = ni ⎜⎜ + 2 ⎟⎟ dT ⎝ T kT ⎠ ► Ez
mekkora Si-ra?
d ni2 ⎛ Wg = ⎜⎜ 3 + 2 ni kT ⎝
⎞ dT ⎟⎟ ⎠ T
Példa
d ni2 ⎛ 1,12 ⎞ d T oC ≈ 15% / = 3 + ≅ 0 . 15 d T ⎜ ⎟ ni2 0,026 ⎠ 300 ⎝ 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
19
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Töltéshordozó-koncentráció hőmérsékletfüggése
Példa
Si, T = 300 K, a donor adalékok sűrűsége ND = 1017 /cm3 n ≅ ND = 1017 /cm3 2 ⇐ n ⋅ p = ni p = ni2 / n = 1020/1017 = 103/cm3 Hogyan változik n és p, ha T 25 fokkal nő? n ≅ ND = 1017 /cm3 – változatlan ni2 = 1020 ⋅ 1.1525 = 33 ⋅1020 ⇒ p = ni2 / n = 33⋅1020/1017 = 3.3⋅104/cm3 Csak a kisebbségi hordozók sűrűsége nőtt! 2014-09-19
oC →10× ΔT=16.5 Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
20
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Áramok a félvezetőben ► Sodródási
áram (el. térerősség hatására) ► Diffúziós áram (sűrűség különbség hat.) Amiről nem beszélünk: 2014-09-19
hőmérséklet különbség is indíthat áramot a mágneses erőtérnek is van befolyása töltésáramlás mellett energiaáramlás is van kombinált transzportjelenségek Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
21
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Sodródási áram (drift áram) Az elektronok hőmozgása
Nincs térerősség
vs = μ E 2014-09-19
Van térerősség
μ = mozgékonyság m2/Vs
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
22
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Sodródási áram (drift áram) ρ töltéssűrűség J = ρ v v (átlag)sebesség vs = μ E J n = q n μn E Jp = q p μp E
J = q (n μ n + p μ p ) E
J =σe E ρe =
Ohm törvény
σ e = q (n μ n + p μ p )
1
σe
Fajlagos ellenállás 2014-09-19
Differenciális
A félvezetőanyag fajlagos vezetőképessége
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
23
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Drift velocity [cm/s]
A mozgékonyságról
Si
μn= 1500 cm2/Vs μp= 350 cm2/Vs Electric field [V/cm]
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
24
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A mozgékonyságról ►
►
Növekvő adalékolásssal csökken
300 K
Szobahőmérsékleten növekvő hőmérséklettel csökken
μ ~ T -3/2 Si, lyukak
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
25
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A diffúziós áram ► Ok:
a sűrűség különbség és a hőmozgás ► Arányos
a sűrűség gradienssel
J n = q Dn grad n ►D
= diffúziós állandó 2 [m /s] 2014-09-19
J p = − q D p grad p
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
26
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
A teljes áramsűrűség
J n = qnμ n E + q Dn grad n J p = q pμ p E − q D p grad p kT μ D= q kT UT = q
T =300 K
Einstein összefüggés
1,38 ⋅10 −23 [VAs/K] ⋅ 300 [K] = ≅ 0,026 V = 26 mV −19 1,6 ⋅10 [As] Termikus feszültség
2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
27
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Generáció, rekombináció ►
Élettartam: az az átlagos idő, amit egy elektron a vezetési sávban tölt
τ n, τ p
rn =
n
τn
2014-09-19
rp =
p
τp
1 ns … 1 μs
3
►
Generációs ráta: g [1/m s]
►
Rekombinációs ráta: r [1/m3s]
g n = rn egyensúlyi =
n0
τn
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
28
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Folytonossági egyenlet 1 d Δ N =− dt −q
∫J
n
d A + gn ⋅ ΔV −
A
d ΔN 1 1 = dt Δ V q Δ V
∫J
n
n
τn
ΔV
d A + gn −
A
n
τn
( )
dn 1 n = div J n + g n − dt q τn 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
29
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Folytonossági egyenlet
( )
dn 1 n = div J n + g n − τn dt q
J n = qnμ n E + q Dn grad n
( )
dn n = μ n div n E + Dn divgrad n + g n − dt τn
( )
p dp = − μ p div p E + D p divgrad p + g p − τp dt 2014-09-19
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
30
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudomanyi Egyetem
Elektronikus Eszközök Tanszéke
Példa a diffúziós egyenlet megoldására
( )
dn n = μ n div n E + Dn divgrad n + g n − dt τn
d 2n n 0 = Dn 2 + g n − dx τn
p
d 2 n n0 n 0 = Dn 2 + − dx τ n τ n n( x) = n0 + (ne − n0 ) exp(− x / Dnτ n )
Ln = Dnτ n 2014-09-19
diffuziós hossz
Mikroelektronika - Félvezető fizikai alapok © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014
31