Technické podmínky "SUSEN - Zařízení pro TEM laboratoř" 1. Kupující v zadávacím řízení poptal dodávku zařízení vyhovujícího následujícím technickým požadavkům: Předmětem zakázky "Zařízení pro TEM laboratoř" je: Transmisní elektronový mikroskop (TEM) určený primárně pro charakterizaci materiálů ozářených neutrony. TEM s všestranným využitím v materiálovém výzkumu umožňující studium struktury, krystalografie a chemického složení až v subnanometrické úrovni (tzv. HR-(S)TEM). Elektronový zdroj FEG, maximální urychlovací napětí 200 kV nebo 300 kV. Práce v různých módech TEM např. Selected Area Diffraction (SAED), Nano-Beam Electron Diffraction (NBED), Convergent Beam Electron Diffraction (CBED). Skenovací jednotka STEM a detektory pro STEM: High Angle Annular Dark Field (HAADF), Angular Dark Field (ADF) a Bright Field (BF). Analytické spektroskopy pro Energy Dispersive X-ray (EDX) a Electron Energy Loss Spectroscope (EELS). Energiový filtr pro Energy Filtering TEM (EFTEM). Digitální kamery pro záznam obrazu a difrakce. Držáky TEM vzorků vhodné pro analýzy chemického složení (vč. tzv. Low-Background Double Tilt Holder (LBDT)), krystalografie a pro 3D tomografii. SW vybavení pro komplexní analýzy (kalibrovaný záznam obrazu/difrakce, zpracování obrazu, měření, hodnocení spekter EDX a EELS, EFTEM mapování, 3D tomografie ad.). Součástí dodávky TEM jsou i periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM (uzavřený chladící okruh, UPS, kompresor, rotační pumpa ad.). Součástí zakázky je kromě mikroskopu TEM také: Plasma cleaner, Vakuová stanice pro TEM držáky, Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií, Stereomikroskop, Aktivní systém kompenzace elektromagnetického pole, Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků.
Číslo Technické a funkční vlastnosti
Požadovaná hodnota či vlastnost
► Zařízení pro TEM laboratoř - stručný popis částí zařízení a1 a2 a3
Transmisní elektronový mikroskop TEM Elektronový zdroj mikroskopu je typu FEG Nejvyšší (standardní) urychlovací napětí mikroskopu je alespoň 200 kV nebo vyšší
Ano Ano Ano
a4
Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků
Ano
a5 a6 a7 a8 a9 a10 a11 a12 a13 a14
Samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis dodaného mikroskopu Motorizované optické clony mikroskopu Náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM Plně eucentrický goniometr v 5 osách Antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorek proti kontaminaci Jednonáklonový držák Dvounáklonový analytický držák, beriliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) Držák TEM vzorků pro 3D tomografii Plně digitalizovaná a integrovaná STEM jednotka pro skenování elektronovým svazkem STEM detektor HAADF (instalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem)
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
a15 a16 a17 a18 a19 a20 a21 a22 a23 a24 a25 a26 a27 a28 a29 a30 a31 a32 a33 a34 a35
STEM detektor ADF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) STEM detektor BF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) Detektor EDS, technologie SDD, bezokénkový První digitální kamera instalovaná v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem Druhá digitální kamera instalovaná v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem Energiový filtr pro EFTEM a spektrometr EELS v "post-column" uspořádání SW pro 3D tomografii Standardizované vzorky pro kalibraci zvětšení obrazu a difrakce a pro ověření rozlišení mikroskopu Fluorescenční stínítko Počítače mikroskopu a jeho příslušenství pro ukládání, zpracování a analýzu dat Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) UPS (zajištění alespoň 30 minut autonomie za plného chodu mikroskopu) Uzavřený chladící okruh TEM Kompresor Rotační vakuové vývěvy Aktivní kompenzace elektromagnetického pole Plasma cleaner Vakuová stanice pro TEM držáky Stereomikroskop Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Elektronový zdroj mikroskopu b1
b2 b3 b4
b5 b6
FEG katoda optimalizovaná pro vysoký a stabilní proud elektronů fokusovaných do velmi úzkého svazku Nejvyšší možné (standardní) urychlovací napětí mikroskopu Nejnižší možné urychlovací napětí mikroskopu Dodaný mikroskop musí být továrně seřízený a zkalibrovaný na nejvyšší (standardní) urychlovací napětí a na nejnižší možné urychlovací napětí a minimálně na jedno urychlovací napětí mezi nejvyšším a nejnižším, na kterém se Prodávající a Kupující dohodnou během realizace Dodaný mikroskop (vč. detektoru EDS, energiového filtru a detektoru EELS) musí být seřízený pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí Musí být možné obnovit dodavatelem nastavená seřízení mikroskopu pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí, tj. tato seřízení jsou uložena v paměti mikroskopou v tzv. "inženýrském" módu
Ano Alespoň 200 kV či vyšší Alespoň 80 kV čí nižší
Hodnoticí parametr
Ano
Ano Ano
► Rozlišení mikroskopu c1 c2 c3
Bodové rozlišení, které umožňuje dodané zařízení mikroskopu Liniové / mřížkové rozlišení Rozlišení mikroskopu ve STEM módu
≤ 0.250 nm ≤ 0.102 nm ≤ 0.2 nm
► Zvětšení mikroskopu při 200 kV d1 d2 d3
Minimální zvětšení - TEM Maximální zvětšení - TEM Maximální zvětšení - STEM
≤ 50x ≥ 900.000x ≥ 10.000.000x
Hodnoticí parametr Hodnoticí parametr
► Požadované pracovní módy a vlastnosti optiky mikroskopu e1
Mikroskop musí umožnit ukládání a načítání uživatelských nastavení optiky mikroskopu
Ano
e2 e3 e4 e5 e6
Zobrazení elektronové difrakce SAED CBED a Kikuchiho zobrazení difrakce NBED, minimální průměr svazku ≤ 0.5 nm Pozorování ve světlém i v tmavém poli Mikroskop musí umožit volbu konvergentního úhlu elektronového svazku pro specifické analýzy (např. EDS, CBED, NBED) Mikroskop musí umožit změnu intenzity svazku (tzv. funkce "spot size") pro dosažení optimálního proudu elektronů ve svazku při specifických analýzách (např. EDS) Modul pro precesi elektronové difrakce (nejvyšší precesní úhel ≥ 2°, rotace svazku ≥ 5 Hz), který musí umožnit mapování krystalografie vzorku ve STEM Dodané zařízení mikroskopu umožňuje pro ultra vysoké rozlišení (≤ 0,20 nm) vysoké náklony TEM držáku (alespoň ± 80° v ose X s 3 mm TEM vzorky)
Ano Ano Ano Ano Ano
e7 e8 e9 e10
Ano Ano Hodnoticí parametr Hodnoticí parametr
► Požadavky na konstrukci mikroskopu, vakuová soustava f1
f2 f3 f4 f5
Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků Součástí dodávky mikroskopu je samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis (rozebírání tubusu apod.) dodaného mikroskopu Úroveň vakua v komoře vzorku musí být Úroveň vakua v oblasti elektronového děla musí být Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu
Ano
Ano ≤ 1x10-5 Pa ≤ 5x10-7 Pa Hodnoticí parametr
► Clony optického systému mikroskopu g1 g2 g3
Pohyblivé clony mikroskopu musí být motorizovány a dálkově ovladány (tj. výměna a centrování clon) pomocí SW rozhraní řídícího počítače Clony dodaného mikroskopu musí umožnit plnohodnotné analýzy ve všech požadovaných pracovních módech vč.: STEM, EDS, CBED, NBED, HR-S/TEM, SAED V dodávce je jedna náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM
Ano Ano Ano
► Kalibrační vzorky h1 h2 h3
Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení obrazu mikroskopu Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení difrakce mikroskopu Dodání vzorků pro ověření bodového a liniového rozlišení mikroskopu
Ano Ano Ano
► Projekční komora (fluorescenční stínítko) i1 i2 i3
Mikroskop má sklopné fluoroscenční stínítko dostupné pro operátora Stavitelné stínítko primárního difrakčního svazku / ukazovátko Stereomikroskop (binokulár) pro sledování stínítka
► Goniometr a komora vzorku
Ano Ano Ano
j1 j2 j3 j4 j5 j6
Plně eucentrický goniometr v 5 osách (tj. lineární posuvy X, Y a Z a úhlové náklony v osách X a Y) Kontrola pohybu vzorku pomocí SW řídícího počítače mikroskopu Mikroskop musí mít nainstalovanou antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorku proti kontaminaci Piezoelektrický posuv a piezoelektrická kontrola při pohybu vzorkem Goniometr s funkčním odnímatelným krytem zkonstruovaným proti přenosu akustických vibrací na TEM držák v mikroskopu Vakuový systém komory vzorku musí umožnit zasunutí držáku se vzorkem v čase kratším než 10 minut
Ano Ano Ano Hodnoticí parametr Hodnoticí parametr Ano
► Držáky TEM vzorků k1 k2 k3 k4 k5 k6 k7 k8 k9 k10 k11 k12
Dodané držáky TEM vzorků musí spolu s dodaným mikroskopem zaručit následující operace: Upnutí TEM fólie s průměrem 3 mm Náklon v jedné ose (X) se standardním TEM vzorkem (∅3 mm) Náklon ve dvou osách (X, Y) současně se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm) Náklon v jedné ose (X) alespoň jednoho TEM držáku vhodného pro tomografii (např. s použitím speciálního zakončení držáku) se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm) Analýza chemického složení při nízkém spektru pozadí (tj. LBDT) Musí být dodány alespoň tyto držáky vč. příslušenství: Všechny dodané držáky musí být plně kompatibilní s dodaným mikroskopem Jednonáklonový držák Dvounáklonový analytický držák, berylliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) Tomografický držák nebo speciální zakončení držáku, který musí umožňovat vysoký náklon v ose X se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm) Berylliový mezikroužek pro fixování velmi tenkých TEM fólií v dodaných TEM držácích (pokud to vyžaduje upínací systém dodaných držáků)
Ano Alespoň +/- 30° Alespoň +/- 30° Alespoň +/- 60° Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► STEM jednotka
l3 l4
Mikroskop musí být vybavený plně digitalizovanou integrovanou STEM jednotkou pro skenování vzorku elektronovým svazkem STEM jednotka musí umožnit akvizici signálů alsespoň z detektorů pro STEM (tj. BF, ADF, HAADF), z EDS detektoru a z energiového filtru Simultánní načítání několika signálů, včetně signálu detektorů EDS a EELS Minimální průměr elektronového svazku ve STEM módu
l5
Mikroskop musí umožnit rotaci STEM obrazu v průběhu pozorování o libovolný celý úhel
l1 l2
Ano Ano Ano ≤ 0.5 nm Ano
► STEM detektory m1 m2
Všechny STEM detektory musí být v pracovní pozici na ose elektronového svazku STEM detektor HAADF (musí být nainstalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem)
Ano Ano
m3
STEM detektor ADF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem)
Ano
m4 m5
STEM detektor BF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) Posuv detektorů HAADF, ADF a BF do pracovní pozice a zpět musí být motorizovaný
Ano Ano
m6
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EDS
Ano
Hodnoticí parametr
m7
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EELS
Ano
m8
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektorů EDS a EELS
Ano
► EDS detektor n1 n2 n3 n4 n5 n6 n7 n8 n9 n10 n11 n12 n13 n14 n15 n16 n17 n18 n19 n20 n21 n22 n23
SDD technologie detektoru Bezokénkové provedení detektoru Velikost aktivní plochy detektoru EDS Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při ztrátě požadovaného vakua v mikroskopu Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při vysokém toku elektronů Rozlišení detektoru na Mn Kα Rozlišení detektoru na C Kα Zaručená citlivost pro chemické prvky s atomovým číslem Z Pohyb detektoru EDS musí být plně motorizovaný a musí být dálkově ovládaný pomocí PC (pokud je konstrukce detektoru pohyblivá) Chlazení všech částí detektoru EDS musí být bez LN2 Automatická kompenzace driftu vzorku při dlouhých časech EDS analýzy Automatické odečtení pozadí spektra Automatická identifikace peaků spektra Dekonvoluce překryvu peaků Vytváření reportů/protokolů Export protokolů a dat do produktů MS Office Multiuživatelský systém SW EDS detektoru Bodové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení Liniové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení Možnost nastavení počtu a rozteče bodů na čáře při liniové analýze Kvalitativní a kvantitativní mapování chemického složení Mapovaní fází Alespoň 5 off-line licencí SW pro samostatně stojící počítače ke kompletnímu hodnocení dat EDS
Ano Ano Alespoň 80 mm2 či větší Hodnoticí parametr Ano Alespoň 136 eV Alespoň 60 eV Z ≥ 5 (Bor) Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Kamery pro záznam obrazu a videa o1 o2 o3 o4 o5 o6 o7
Všechny kamery a jejich SW musí být zkalibrovány pro všechny zobrazovací a analytické módy mikroskopu Minimální rozlišení kamer musí být alespoň 4 miliony pixelů Minimální rozsah digitalizace obrazu kamer musí být alespoň 14 bitů či více Zasouvání kamer do pracovní polohy a zpět musí být motorizované a dálkově ovládáné pomocí SW mikroskopu Senzor kamer musí být při zasunutí do pracovní pozice na ose elektronového svazku Všechny instalované kamery musí být konstrukčně a geometricky kompatibilní s dodaným mikroskopem a jeho součástmi Všechny kamery pro snímání obrazu a videa tvořeného elektrony musí být od jednoho výrobce a pracovat na jednotném SW
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Hodnoticí parametr
o8 o9 o10 o11
Všechny kamery pro snímání obrazu a videa musí být plně kompatibilní s HW a SW instalovaného energiového filtru Formát uložení obrazu dodaných kamer musí být alespoň ve formátu TIFF a JPEG Alespoň jedna kamera musí umožnit ostření obrazu pomocí Fourierovy transformace Alespoň jedna kamera musí být nainstalována nad stínítkem, tj. v pozici "wide-angle"
Ano Ano Ano Ano
o12
Alespoň jedna kamera musí mít zvýšenou odolnost vůči působení intenzivního elektronového svazku. Tj. zejména při použití nejvyššího urychlovacího napětí mikroskopu a při působení primárního elektronového svazku jednosvazkových difrakcí apod.
Ano
o13
Kamera odolná vůči působení intenzivního elektronového svazku musí umožnit zobrazení difrakce bez dodatečných pruhových artefaktů - tato kamera má tzv. "anti-blooming" systém
Ano
o14
Alespoň jedna kamera musí mít velké zorné pole umožňující snímání podstatné části obrazu stínítka, resp. snímání plnohodnotného obrazu i v malých zvětšeních (tj. bez nutnosti dalšího významného snížení zvětšení mikroskopu vedoucího ke snížení kvality obrazu při snímání oblasti zájmu)
Ano
o15
Alespoň jedna kamera musí být nainstalována pod stínítkem, tj. v pozici "bottom-mounted"
Ano
o16
Alespoň jedna kamera musí být optimalizovaná pro vysoká rozlišení a zvětšení mikroskopu
Ano
o17 o18 o19 o20
Minimální rozsah digitalizace obrazu kamery optimalizované pro vysoká rozlišení a zvětšení musí být alespoň 16 bitů či více Alespoň jedna kamera musí mít rychlou odezvu (dle TV standardů) umožňující pozorování a záznam živých obrazů např. při rychlém posuvu vzorkem či při in-situ experimentech při malých i velkých zvětšeních Alespoň jedna kamera musí mít snímkovou frekvenci záznamu videa alespoň 24 fps (frames per second) nebo vyšší
Ano
Všechny kamery a jejich SW musí umožnit záznam a zpracování videa z in-situ experimentů
Ano
Ano
Ano
► SW pro záznam a zpracování obrazu a videa p1
Kamery a jejich SW musí uživateli umožnit optimalizovat expozici v průběhu snímání obrazu
Ano
p2
SW musí umožňovat tyto operace při obrazové analýze: - vložení kalibrovaného měřítka do pořízeného obrazu či videa vzhledem k použitému zvětšení mikroskopu - měření rozměrů (horizontálně, vertikálně a v libovolném úhlu), - měření úhlů, - kalibrované měření mezirovinných krystalografických vzdáleností v reciprokém prostoru, - měření rozložení intenzity jasu (alespoň na určené linii přes oblast zájmu), - FFT pro seřízení astigmatismu a pro zpracování obrazu
Ano
p3 p4
SW musí umožňovat alespoň tyto grafické úpravy obrazu: - nastavení vhodného jasu a kontrastu pořízených obrazů SW musí umožňovat záznam in-situ videa z dodaných kamer
Ano Ano
p5
Alespoň 5 off-line licencí každého dodaného SW pro zpracování a analýzu obrazu a videa pro samostatně stojící počítače
Ano
► SW pro pořízení a zpracování 3D tomografie TEM vzorků q1 q2 q3 q4 q5 q6
SW pro získávání sérií obrazů elektronové tomografie při postupném naklápění TEM vzorku o velké úhly SW pro 3D tomografickou rekonstrukci vzorku z pořízených sérií obrazů SW pro 3D renderování tomografického obrazu Dodaný SW pro 3D tomografii TEM vzorků musí umožnit 3D tomografii pomocí STEM detektoru HAADF Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být nainstalován a nakonfigurován na příslušném počítači mikroskopu TEM Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být vzájemně kompatibilní a musí být vhodný pro výzkum kovových materiálů pomocí TEM
Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Energiový filtr pro EFTEM a EELS r1
r2 r3 r4 r5 r6 r7 r8 r9 r10 r11 r12 r13 r14 r15 r17
Energiový filtr dodaného mikroskopu musí umožnit analýzu lehkých chemických prvků, izotopické analýzy, filtraci TEM obrazu a difrakce či přesné měření tlouštěk vzorků. Pro dosažení kvalitních výsledků musí filtr splňovat rychlou akvizici EELS spekter, možnost získávat EELS spektra z high- a low- core loss oblasti současně, paralelně analyzovat EELS a EDS spektra. V dodaném mikroskopu musí být nainstalován energiový filtr s požadovanými vlastnostmi, kterým musí odpovídat i dodaný a nainstalovaný SW energiového filtru Energiový filtr musí být seřízen na všechna továrně nastavená urychlovací napětí mikroskopu Filtr je plně kompatibilní s kamerou mikroskopu instalovanou pod stínítkem Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) obrazy TEM vzorků Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) zobrazení elektronové difrakce Filtr musí umožnit EFTEM měření, mapování a profilování tlouštěk TEM vzorků Filtr musí umožnit zaznamenávat spektra EELS ve STEM módu s využitím HAADF i ADF detektoru Filtr musí umožnit zaznamenávat EELS spektra v rozsahu alespoň 2000 eV Minimální rychlost akvizice EELS spekter filtrem musí být alespoň 1000 spekter/s CCD kamera filtru musí být synchronizována se systémem STEM jednotky tak, aby byl mikroskop schopný ve STEM módu získávat EELS spektra s rychlou akvizicí (alespoň 1000 pixelů/s) Systém EELS spektroskopu musí umožnit simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra (např. "high core-loss" a "low core-loss") Systém EELS spektroskopu musí umožnit vysokorychlostní kompenzaci spekter alespoň do 2000 eV umožňující simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra Mikroskop musí umožnit simultální akvizici signálu detektorů STEM, EDS a EELS (obou high core-loss a low core-loss spekter současně) Filtr musí umožnit mapování, liniové a bodové analýzy chemického složení pomocí EELS spekter Filtr musí umožnit akvizici signálu více chemických prvků současně a akvizici víceprvkových map analyzované oblasti
Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
r16 r18 r19 r20 r21 r22 r23
Mikroskop musí umožnit získání EELS spekter z vybraných bodů analyzované oblasti (tj. z mapy chemického složení této oblasti) s pomocí obrazu pořízeného STEM detektorem SW filtru musí umožnit akvizici a analýzu EDS spektra prostřednictvím systému nainstalovaného EDS detektoru SW filtru musí umožnit ukládat nastavení proběhlých experimentů a používat je při dalších měřeních pro co nejlepší reprodukovatelnost výsledků Filtr musí mít automatickou kompenzaci driftu vzorku při dlouhých časech akvizice EELS spekter Dodání plnohodnotného atlasu EELS spekter keramických, kovových, polymerových a polovodičových materiálů na CD-ROM, alespoň 2 licence, a v knižní podobě, alespoň 2 kusy nemusí být ekvivalentní s verzí na CD-ROM Počítač filtru: SW a HW musí pracovat v 64-bit architektuře, operační paměť RAM počítače filtru je alespoň 32 GB Alespoň 1 off-line licence SW pro samostatně stojící počítač pro analýzu EELS spekter
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Počítače mikroskopu a jeho příslušenství
s11 s12 s13
Dodané počítače pro mikroskop TEM musí umožnit akvizici a zpracování dat z analytických systémů mikroskopu vč. detektorů EDS a EELS Na všech dodaných počítačích musí být nainstalován operační systém MS Windows, který je optimální pro dodaný mikroskop TEM. Systém MS Windows musí být kompatibilní s používaným systémem Zadavatele, tj. Windows verze 7 Mikroskop a všechen dodaný SW musí být kompatibilní s HW a operačním systémem dodaných počítačů Operační systém a architektura SW a HW všech dodaných systémů mikroskopu TEM je 64-bit. Dodané počítače všech systémů mikroskopu TEM mají operační paměť RAM alespoň 32 GB HW počítačů: Výkon procesoru dodaných počítačů - podle hodnocení v PassMark - CPU Mark 1. pevný disk pro operační systém: SSD 2. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu 3. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Pevné disky 2. a 3. musí umožnit tzv. zrcadlení (mirroring) svazku pro dosažení vysoké bezpečnosti archivace dat Velikost operační paměti RAM dodaných počítačů DVD mechanika s vypalovačkou CD/DVD, alespoň 16x DVD+/-RW Ovládací rozhraní TEM:
s14
Pro posun vzorku ve všech hlavních režimech měření musí být k dispozici m.j. „trackball“
s15 s16
Místní síť: Počítače mikroskopu TEM musí umožnit dálkovou diagnostiku servisním střediskem Dodaný mikroskop je možné dálkově ovládat z přilehlého počítačového centra na stejné chodbě pavilónu. Ovládání mikroskopu a jeho analytických systémů je zprostředkováno obdobným rozhraním jako v laboratoři TEM s využitím adekvátního SW.
s1 s2 s3 s4 s5 s6 s7 s8 s9 s10
s17
Ano Ano Ano Hodnoticí parametr
Alespoň 8000 či více Alespoň 500 GB či více Alespoň 2 TB či více Alespoň 2 TB či více Ano Alespoň 4 GB či více Ano Ano Ano Hodnoticí parametr
s18
s20 s21 s22 s23 s24
Monitory: Alespoň 3 samostatné LCD monitory pro mikroskop TEM (např. pro řídící SW mikroskopu, pro promítání obrazu kamer a pro analýzy EDS a EELS) Monitory musí být vyrobeny technologií IPS Úhlopříčka dodaných monitorů Minimální rozlišení monitorů Monitory lze vertikálně otočit o 90° (tj. ze ší řky na výšku) Tiskárna:
s25
Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) pro tisk pořízených dat v laboratoři TEM
s26
Kabinet(y) pro příslušenství mikroskopu:
s27
Úložné kabinety pro skladování všech samostatně stojících ovládacích jednotek mikroskopu a jeho příslušenství (např. elektronika EDS, EELS, EFTEM, kamery, STEM apod.)
s19
Ano Ano Alespoň 24 palců či více 1920×1080 pix či lepší Ano Ano
Ano
► Periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM t1 t2 t3 t4 t5 t6 t7 t8 t9
Periferní zařízení budou umístěna v místosti č. 161 - Technická místnost TEM, případně v místosti č. 140 - Laboratoř TEM UPS Minimální výdrž UPS při výpadku proudu a při chodu mikroskopu na plný výkon (tj. všeho příslušenství mikroskopu a všech periferních zařízení mikroskopu (vč. chladícího okruhu)) Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu UPS musí napájet také uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM Uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM Kompresor Rotační vakuové vývěvy Rotační vývěvy a kompresor nesmí při svém chodu ovlivňovat mikroskop vibracemi
Ano Ano Alespoň 30 minut či více Hodnoticí parametr Ano Ano Ano Ano Ano
► Aktivní kompenzace elektromagnetického pole u1 u2 u3 u4 u5 u6 u7 u8 u9
Toto zařízení musí umožnit kompenzaci vnějšího elektromagnetického pole, které může působit na dodaný mikroskop od okolních zařízení či technologií a významně degradovat analytické schopnosti dodaného mikroskopu Systém aktivní kompenzace musí být vhodný pro dodaný mikroskop s instalovaným energiovým filtrem Systém aktivní kompenzace musí rušit DC i AC složku elektromagnetického pole Frekvenční rozsah kompenzace musí být alespoň do 1 kHz či více Systém aktivní kompenzace musí pracovat alespoň s 6 Helmholtzovými cívkami Systém aktivní kompenzace musí podporovat 2 senzory elektromagnetického pole Systém aktivní kompenzace musí být dodán s 2 senzory elektromagnetického pole Systém aktivní kompenzace musí měřit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z Systém aktivní kompenzace musí rušit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Plasma cleaner v1
Plasma cleaner musí umožnit čištění vzorků a TEM držáků od povrchové organické kontaminace
Ano
v2 v3 v4 v5 v6 v7
Plasma cleaner musí být nainstalován v místnosti přípravny vzorků pro TEM a SEM Plasma cleaner musí čistit vzorky alespoň směsí tvořenou plyny O2, Ar Plasma cleaner musí umožnit čištění TEM držáků s upevněnou tenkou fólií Plasma cleaner musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu Plasma cleaner musí mít port vhodný pro čištění vzorků pro SEM Plasma cleaner musí být dodán s příslušenstvím nezbytným pro čištění SEM vzorků (tj. vhodný držák vzorků apod.)
Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Vakuová stanice pro TEM držáky
w2 w3 w4 w5
Vakuová stanice musí umožnit dlouhodobé uchování citlivých částí TEM držáků a uskladnění TEM vzorků ve vakuu, tj. v čistém a suchém prostředí, které chrání držáky a vzorky vůči vzdušné kontaminaci Vakuová stanice musí umožnit uchování držáků a vzorků pod vakuem alespoň Vakuová stanice a její příslušenství bude instalované v laboratoři TEM Vakuová stanice musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu V dodávce musí být alespoň 2 schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků
≤ 1x10-4 Pa Ano Ano Ano
w6
Schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků musí být kompatibilní s dodanou stanicí
Ano
w7 w8
Počet portů pro uskladnění TEM držáků Počet portů pro uskladnění TEM vzorků
w1
Ano
Alespoň 2 či více Alespoň 2 či více
► Stereomikroskop x1 x2 x3 x4 x5 x6 x7 x8 x9 x10 x11 x12 x13 x14 x15 x16 x17 x18
Stereomikroskop musí umožnit přesné manuální zakládání TEM vzorků do TEM držáků a k digitální dokumentaci TEM vzorků. Toto zařízení bude instalované v laboratoři TEM Optický systém stereomikroskopu: Okuláry stereomikroskopu musí být nezávisle zaostřitelné pro korekci vad zraku alespoň ± 3 dioptrie či vyšší Okuláry musí být skloněny směrem k operátorovi vůči ose objektivu alespoň o 20° Požadované užitečné zvětšení stereomikroskopu maximální Konstrukce stereomikroskopu: Stereomikroskop musí být zkonstruovaný tak, aby umožnil zakládání vzorku do dodaných TEM držáků za současného sledování místa zakládání vzorku okuláry stereomikriskopu operátorem Stereomikroskop má port pro zasunutí CCD kamery Světelný zdroj stereomikroskopu: Součástí dodávky stereomikroskopu musí být světelný zdroj Dodaný světelný zdroj musí umožnit změnu intenzity osvětlení Součástí světelného zdroje musí být dva flexibilní světlovody umožňující variabilní boční osvětlení vzorku CCD kamera stereomikroskopu: Stereomikroskop musí být dodaný s kompatibilní CCD kamerou umožňující fotodokumentaci vzorků Minimální rozlišení dodané CCD kamery musí být Dodaná CCD kamera musí umožňovat barevný záznam obrazu Dodaná CCD kamera musí mít USB port alespoň 2.0 pro přímé spojení s PC
Ano Ano Ano Ano ≥ 50x
Ano Ano Ano Ano Ano
Ano ≥ 4 Mpix Ano Ano
x19 x20 x21
Dodaná CCD kamera musí mít port pro paměťové médium Dodaná CCD kamera musí umožňovat záznam do formátu alespoň JPG a TIFF CCD kamera musí být dodána spolu se SW k jejímu ovládání a pro záznam obrazu
Ano Ano Ano
► Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků y1 y2
Toto zařízení musí umožnit lapování rovinných či příčných TEM vzorků na tloušťky cca 20 µm (např. před použitím FIB techniky "H-bar") Zařízení musí mít 3 mikrometrické šrouby, které musí umožnit přesné nastavení držáku pro lapování vzorků
Ano Ano
► Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií z1 z2 z3 z4 z5 z6 z7 z8 z9 z10 z11 z12 z13 z14 z15
Toto zařízení musí umožnit elektrolytické ztenčování tenkých fólií, kdy vzniká uprostřed vzorku díra s okrajem transparentním pro elektrony urychlených v mikroskopu TEM na napětí 200 kV či nižší Toto zařízení bude instalované v přípravně vzorků TEM a SEM Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 3 mm Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 1 mm V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 3 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 1 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy Zařízení musí mít dvě souosé a protichůdně směrované trysky pro oboustranné leštění vzorku Zařízení musí umožňovat regulaci průtoku elektrolytu tryskami pro optimalizaci podmínek elektrolýzy Zařízení musí mít funkci citlivé detekce okamžiku perforace fólie umožňující okamžité a automatické zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie Zařízení musí mít signalizaci okamžiku perforace fólie světelným nebo zvukovým signálem Zařízení musí umožňovat vypnutí funkce automatického zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie Řídící a monitorovací jednotka zařízení elektrolytické leštičky Zařízení musí mít digitální displeje monitorující parametry elektrolýzy pro možnost přesného nastavení a kontrolu podmínek elektrolýzy Zařízení musí umožňovat nastavení parametrů elektrolýzy, jmenovitě alespoň napětí a intenzitu průtoku elektrolytu tryskami Zařízení musí mít tlačítko ON/OFF pro centrální vypnutí elektrolytického leštění
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
2. Prodávající ke splnění závazků ze Smlouvy Kupujícímu dodá, nainstaluje, otestuje (včetně podání průkazu dosažení parametrů jednotlivých zařízení) a uvede do provozu minimálně následující zařízení: Typové označení přístroje:
Číslo Technické a funkční vlastnosti
Požadovaná hodnota či vlastnost
Garantovaná hodnota
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
► Zařízení pro TEM laboratoř - stručný popis částí zařízení a1 a2 a3 a4 a5 a6 a7 a8 a9 a10 a11 a12 a13 a14 a15 a16 a17 a18 a19 a20 a21 a22 a23 a24 a25 a26 a27 a28 a29 a30 a31 a32 a33
Transmisní elektronový mikroskop TEM Elektronový zdroj mikroskopu je typu FEG Nejvyšší (standardní) urychlovací napětí mikroskopu je alespoň 200 kV nebo vyšší Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků Samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis dodaného mikroskopu Motorizované optické clony mikroskopu Náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM Plně eucentrický goniometr v 5 osách Antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorek proti kontaminaci Jednonáklonový držák Dvounáklonový analytický držák, beriliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) Držák TEM vzorků pro 3D tomografii Plně digitalizovaná a integrovaná STEM jednotka pro skenování elektronovým svazkem STEM detektor HAADF (instalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem) STEM detektor ADF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) STEM detektor BF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) Detektor EDS, technologie SDD, bezokénkový První digitální kamera instalovaná v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem Druhá digitální kamera instalovaná v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem Energiový filtr pro EFTEM a spektrometr EELS v "post-column" uspořádání SW pro 3D tomografii Standardizované vzorky pro kalibraci zvětšení obrazu a difrakce a pro ověření rozlišení mikroskopu Fluorescenční stínítko Počítače mikroskopu a jeho příslušenství pro ukládání, zpracování a analýzu dat Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) UPS (zajištění alespoň 30 minut autonomie za plného chodu mikroskopu) Uzavřený chladící okruh TEM Kompresor Rotační vakuové vývěvy Aktivní kompenzace elektromagnetického pole Plasma cleaner Vakuová stanice pro TEM držáky Stereomikroskop
a34 a35
Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií
Ano Ano
Ano Ano
Ano
Ano
Alespoň 200 kV či vyšší Alespoň 80 kV čí nižší
Hodnoticí parametr vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
≤ 0.250 nm ≤ 0.102 nm ≤ 0.2 nm
Hodnoticí parametr vyplní uchazeč
≤ 50x ≥ 900.000x ≥ 10.000.000x
vyplní uchazeč vyplní uchazeč vyplní uchazeč
► Elektronový zdroj mikroskopu b1
b2 b3 b4
b5 b6
FEG katoda optimalizovaná pro vysoký a stabilní proud elektronů fokusovaných do velmi úzkého svazku Nejvyšší možné (standardní) urychlovací napětí mikroskopu Nejnižší možné urychlovací napětí mikroskopu Dodaný mikroskop musí být továrně seřízený a zkalibrovaný na nejvyšší (standardní) urychlovací napětí a na nejnižší možné urychlovací napětí a minimálně na jedno urychlovací napětí mezi nejvyšším a nejnižším, na kterém se Prodávající a Kupující dohodnou během realizace Dodaný mikroskop (vč. detektoru EDS, energiového filtru a detektoru EELS) musí být seřízený pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí Musí být možné obnovit dodavatelem nastavená seřízení mikroskopu pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí, tj. tato seřízení jsou uložena v paměti mikroskopou v tzv. "inženýrském" módu
vyplní uchazeč
► Rozlišení mikroskopu c1 c2 c3
Bodové rozlišení, které umožňuje dodané zařízení mikroskopu Liniové / mřížkové rozlišení Rozlišení mikroskopu ve STEM módu
vyplní uchazeč Hodnoticí parametr vyplní uchazeč
► Zvětšení mikroskopu při 200 kV d1 d2 d3
Minimální zvětšení - TEM Maximální zvětšení - TEM Maximální zvětšení - STEM
► Požadované pracovní módy a vlastnosti optiky mikroskopu e1
Mikroskop musí umožnit ukládání a načítání uživatelských nastavení optiky mikroskopu
Ano
Ano
e2 e3 e4 e5 e6
Zobrazení elektronové difrakce SAED CBED a Kikuchiho zobrazení difrakce NBED, minimální průměr svazku ≤ 0.5 nm Pozorování ve světlém i v tmavém poli Mikroskop musí umožit volbu konvergentního úhlu elektronového svazku pro specifické analýzy (např. EDS, CBED, NBED) Mikroskop musí umožit změnu intenzity svazku (tzv. funkce "spot size") pro dosažení optimálního proudu elektronů ve svazku při specifických analýzách (např. EDS) Modul pro precesi elektronové difrakce (nejvyšší precesní úhel ≥ 2°, rotace svazku ≥ 5 Hz), který musí umožnit mapování krystalografie vzorku ve STEM Dodané zařízení mikroskopu umožňuje pro ultra vysoké rozlišení (≤ 0,20 nm) vysoké náklony TEM držáku (alespoň ± 80° v ose X s 3 mm TEM vzorky)
Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
e7 e8 e9 e10
► Požadavky na konstrukci mikroskopu, vakuová soustava
Hodnoticí parametr Hodnoticí parametr
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne) Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
f1
f2 f3 f4 f5
Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků Součástí dodávky mikroskopu je samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis (rozebírání tubusu apod.) dodaného mikroskopu Úroveň vakua v komoře vzorku musí být Úroveň vakua v oblasti elektronového děla musí být Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu
Ano
Ano
Ano
Ano
≤ 1x10-5 Pa ≤ 5x10-7 Pa
vyplní uchazeč vyplní uchazeč
Hodnoticí parametr
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
► Clony optického systému mikroskopu g1 g2 g3
Pohyblivé clony mikroskopu musí být motorizovány a dálkově ovladány (tj. výměna a centrování clon) pomocí SW rozhraní řídícího počítače Clony dodaného mikroskopu musí umožnit plnohodnotné analýzy ve všech požadovaných pracovních módech vč.: STEM, EDS, CBED, NBED, HR-S/TEM, SAED V dodávce je jedna náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM
► Kalibrační vzorky h1 h2 h3
Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení obrazu mikroskopu Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení difrakce mikroskopu Dodání vzorků pro ověření bodového a liniového rozlišení mikroskopu
► Projekční komora (fluorescenční stínítko) i1 i2 i3
Mikroskop má sklopné fluoroscenční stínítko dostupné pro operátora Stavitelné stínítko primárního difrakčního svazku / ukazovátko Stereomikroskop (binokulár) pro sledování stínítka
► Goniometr a komora vzorku j1 j2 j3 j4 j5 j6
Plně eucentrický goniometr v 5 osách (tj. lineární posuvy X, Y a Z a úhlové náklony v osách X a Y) Kontrola pohybu vzorku pomocí SW řídícího počítače mikroskopu Mikroskop musí mít nainstalovanou antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorku proti kontaminaci Piezoelektrický posuv a piezoelektrická kontrola při pohybu vzorkem Goniometr s funkčním odnímatelným krytem zkonstruovaným proti přenosu akustických vibrací na TEM držák v mikroskopu Vakuový systém komory vzorku musí umožnit zasunutí držáku se vzorkem v čase kratším než 10 minut
Hodnoticí parametr Hodnoticí parametr
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne) Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
Ano
Ano
Ano Alespoň +/- 30° Alespoň +/- 30°
vyplní uchazeč vyplní uchazeč
► Držáky TEM vzorků k1 k2 k3 k4 k5
Dodané držáky TEM vzorků musí spolu s dodaným mikroskopem zaručit následující operace: Upnutí TEM fólie s průměrem 3 mm Náklon v jedné ose (X) se standardním TEM vzorkem (∅3 mm) Náklon ve dvou osách (X, Y) současně se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm) Náklon v jedné ose (X) alespoň jednoho TEM držáku vhodného pro tomografii (např. s použitím speciálního zakončení držáku) se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm)
Alespoň +/- 60°
Ano
vyplní uchazeč
k6 k7 k8 k9 k10 k11 k12
Analýza chemického složení při nízkém spektru pozadí (tj. LBDT) Musí být dodány alespoň tyto držáky vč. příslušenství: Všechny dodané držáky musí být plně kompatibilní s dodaným mikroskopem Jednonáklonový držák Dvounáklonový analytický držák, berylliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) Tomografický držák nebo speciální zakončení držáku, který musí umožňovat vysoký náklon v ose X se standardním TEM vzorkem (∅ 3 mm) Berylliový mezikroužek pro fixování velmi tenkých TEM fólií v dodaných TEM držácích (pokud to vyžaduje upínací systém dodaných držáků)
Ano
Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano ≤ 0.5 nm
Ano Hodnotící parametr vyplní uchazeč
Ano
Ano
► STEM jednotka
l3 l4
Mikroskop musí být vybavený plně digitalizovanou integrovanou STEM jednotkou pro skenování vzorku elektronovým svazkem STEM jednotka musí umožnit akvizici signálů alsespoň z detektorů pro STEM (tj. BF, ADF, HAADF), z EDS detektoru a z energiového filtru Simultánní načítání několika signálů, včetně signálu detektorů EDS a EELS Minimální průměr elektronového svazku ve STEM módu
l5
Mikroskop musí umožnit rotaci STEM obrazu v průběhu pozorování o libovolný celý úhel
l1 l2
► STEM detektory m1 m2
Všechny STEM detektory musí být v pracovní pozici na ose elektronového svazku STEM detektor HAADF (musí být nainstalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem)
Ano Ano
Ano Ano
m3
STEM detektor ADF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem)
Ano
Ano
m4 m5
STEM detektor BF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) Posuv detektorů HAADF, ADF a BF do pracovní pozice a zpět musí být motorizovaný
Ano Ano
Ano Ano
m6
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EDS
Ano
Ano
m7
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EELS
Ano
Ano
m8
STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektorů EDS a EELS
Ano
Ano
Ano Ano Alespoň 80 mm2 či větší
Ano Ano Hodnotící parametr vyplní uchazeč Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
► EDS detektor n1 n2 n3 n4 n5 n6 n7 n8 n9
SDD technologie detektoru Bezokénkové provedení detektoru Velikost aktivní plochy detektoru EDS Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při ztrátě požadovaného vakua v mikroskopu Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při vysokém toku elektronů Rozlišení detektoru na Mn Kα Rozlišení detektoru na C Kα Zaručená citlivost pro chemické prvky s atomovým číslem Z Pohyb detektoru EDS musí být plně motorizovaný a musí být dálkově ovládaný pomocí PC (pokud je konstrukce detektoru pohyblivá)
Hodnoticí parametr Ano
Ano
Alespoň 136 eV Alespoň 60 eV Z ≥ 5 (Bor)
vyplní uchazeč vyplní uchazeč vyplní uchazeč
Ano
Ano
n10 n11 n12 n13 n14 n15 n16 n17 n18 n19 n20 n21 n22 n23
Chlazení všech částí detektoru EDS musí být bez LN2 Automatická kompenzace driftu vzorku při dlouhých časech EDS analýzy Automatické odečtení pozadí spektra Automatická identifikace peaků spektra Dekonvoluce překryvu peaků Vytváření reportů/protokolů Export protokolů a dat do produktů MS Office Multiuživatelský systém SW EDS detektoru Bodové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení Liniové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení Možnost nastavení počtu a rozteče bodů na čáře při liniové analýze Kvalitativní a kvantitativní mapování chemického složení Mapovaní fází Alespoň 5 off-line licencí SW pro samostatně stojící počítače ke kompletnímu hodnocení dat EDS
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano
Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
► Kamery pro záznam obrazu a videa o1 o2 o3 o4 o5 o6 o7 o8 o9 o10 o11
Všechny kamery a jejich SW musí být zkalibrovány pro všechny zobrazovací a analytické módy mikroskopu Minimální rozlišení kamer musí být alespoň 4 miliony pixelů Minimální rozsah digitalizace obrazu kamer musí být alespoň 14 bitů či více Zasouvání kamer do pracovní polohy a zpět musí být motorizované a dálkově ovládáné pomocí SW mikroskopu Senzor kamer musí být při zasunutí do pracovní pozice na ose elektronového svazku Všechny instalované kamery musí být konstrukčně a geometricky kompatibilní s dodaným mikroskopem a jeho součástmi Všechny kamery pro snímání obrazu a videa tvořeného elektrony musí být od jednoho výrobce a pracovat na jednotném SW Všechny kamery pro snímání obrazu a videa musí být plně kompatibilní s HW a SW instalovaného energiového filtru Formát uložení obrazu dodaných kamer musí být alespoň ve formátu TIFF a JPEG Alespoň jedna kamera musí umožnit ostření obrazu pomocí Fourierovy transformace Alespoň jedna kamera musí být nainstalována nad stínítkem, tj. v pozici "wide-angle"
o12
Alespoň jedna kamera musí mít zvýšenou odolnost vůči působení intenzivního elektronového svazku. Tj. zejména při použití nejvyššího urychlovacího napětí mikroskopu a při působení primárního elektronového svazku jednosvazkových difrakcí apod.
Ano
Ano
o13
Kamera odolná vůči působení intenzivního elektronového svazku musí umožnit zobrazení difrakce bez dodatečných pruhových artefaktů - tato kamera má tzv. "anti-blooming" systém
Ano
Ano
o14
Alespoň jedna kamera musí mít velké zorné pole umožňující snímání podstatné části obrazu stínítka, resp. snímání plnohodnotného obrazu i v malých zvětšeních (tj. bez nutnosti dalšího významného snížení zvětšení mikroskopu vedoucího ke snížení kvality obrazu při snímání oblasti zájmu)
Ano
Ano
o15
Alespoň jedna kamera musí být nainstalována pod stínítkem, tj. v pozici "bottom-mounted"
Ano
Ano
o16 o17 o18 o19 o20
Alespoň jedna kamera musí být optimalizovaná pro vysoká rozlišení a zvětšení mikroskopu Minimální rozsah digitalizace obrazu kamery optimalizované pro vysoká rozlišení a zvětšení musí být alespoň 16 bitů či více Alespoň jedna kamera musí mít rychlou odezvu (dle TV standardů) umožňující pozorování a záznam živých obrazů např. při rychlém posuvu vzorkem či při in-situ experimentech při malých i velkých zvětšeních Alespoň jedna kamera musí mít snímkovou frekvenci záznamu videa alespoň 24 fps (frames per second) nebo vyšší Všechny kamery a jejich SW musí umožnit záznam a zpracování videa z in-situ experimentů
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
► SW pro záznam a zpracování obrazu a videa p1
Kamery a jejich SW musí uživateli umožnit optimalizovat expozici v průběhu snímání obrazu
Ano
Ano
p2
SW musí umožňovat tyto operace při obrazové analýze: - vložení kalibrovaného měřítka do pořízeného obrazu či videa vzhledem k použitému zvětšení mikroskopu - měření rozměrů (horizontálně, vertikálně a v libovolném úhlu), - měření úhlů, - kalibrované měření mezirovinných krystalografických vzdáleností v reciprokém prostoru, - měření rozložení intenzity jasu (alespoň na určené linii přes oblast zájmu), - FFT pro seřízení astigmatismu a pro zpracování obrazu
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano
Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
p3 p4 p5
SW musí umožňovat alespoň tyto grafické úpravy obrazu: - nastavení vhodného jasu a kontrastu pořízených obrazů SW musí umožňovat záznam in-situ videa z dodaných kamer Alespoň 5 off-line licencí každého dodaného SW pro zpracování a analýzu obrazu a videa pro samostatně stojící počítače
► SW pro pořízení a zpracování 3D tomografie TEM vzorků q1 q2 q3 q4 q5 q6
SW pro získávání sérií obrazů elektronové tomografie při postupném naklápění TEM vzorku o velké úhly SW pro 3D tomografickou rekonstrukci vzorku z pořízených sérií obrazů SW pro 3D renderování tomografického obrazu Dodaný SW pro 3D tomografii TEM vzorků musí umožnit 3D tomografii pomocí STEM detektoru HAADF Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být nainstalován a nakonfigurován na příslušném počítači mikroskopu TEM Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být vzájemně kompatibilní a musí být vhodný pro výzkum kovových materiálů pomocí TEM
► Energiový filtr pro EFTEM a EELS r1
Energiový filtr dodaného mikroskopu musí umožnit analýzu lehkých chemických prvků, izotopické analýzy, filtraci TEM obrazu a difrakce či přesné měření tlouštěk vzorků. Pro dosažení kvalitních výsledků musí filtr splňovat rychlou akvizici EELS spekter, možnost získávat EELS spektra z high- a low- core loss oblasti současně, paralelně analyzovat EELS a EDS spektra.
r2 r3 r4 r5 r6 r7 r8 r9 r10 r11 r12 r13 r14 r15 r17 r16 r18 r19 r20 r21 r22 r23
V dodaném mikroskopu musí být nainstalován energiový filtr s požadovanými vlastnostmi, kterým musí odpovídat i dodaný a nainstalovaný SW energiového filtru Energiový filtr musí být seřízen na všechna továrně nastavená urychlovací napětí mikroskopu Filtr je plně kompatibilní s kamerou mikroskopu instalovanou pod stínítkem Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) obrazy TEM vzorků Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) zobrazení elektronové difrakce Filtr musí umožnit EFTEM měření, mapování a profilování tlouštěk TEM vzorků Filtr musí umožnit zaznamenávat spektra EELS ve STEM módu s využitím HAADF i ADF detektoru Filtr musí umožnit zaznamenávat EELS spektra v rozsahu alespoň 2000 eV Minimální rychlost akvizice EELS spekter filtrem musí být alespoň 1000 spekter/s CCD kamera filtru musí být synchronizována se systémem STEM jednotky tak, aby byl mikroskop schopný ve STEM módu získávat EELS spektra s rychlou akvizicí (alespoň 1000 pixelů/s) Systém EELS spektroskopu musí umožnit simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra (např. "high core-loss" a "low core-loss") Systém EELS spektroskopu musí umožnit vysokorychlostní kompenzaci spekter alespoň do 2000 eV umožňující simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra Mikroskop musí umožnit simultální akvizici signálu detektorů STEM, EDS a EELS (obou high core-loss a low core-loss spekter současně) Filtr musí umožnit mapování, liniové a bodové analýzy chemického složení pomocí EELS spekter Filtr musí umožnit akvizici signálu více chemických prvků současně a akvizici víceprvkových map analyzované oblasti Mikroskop musí umožnit získání EELS spekter z vybraných bodů analyzované oblasti (tj. z mapy chemického složení této oblasti) s pomocí obrazu pořízeného STEM detektorem SW filtru musí umožnit akvizici a analýzu EDS spektra prostřednictvím systému nainstalovaného EDS detektoru SW filtru musí umožnit ukládat nastavení proběhlých experimentů a používat je při dalších měřeních pro co nejlepší reprodukovatelnost výsledků Filtr musí mít automatickou kompenzaci driftu vzorku při dlouhých časech akvizice EELS spekter Dodání plnohodnotného atlasu EELS spekter keramických, kovových, polymerových a polovodičových materiálů na CD-ROM, alespoň 2 licence, a v knižní podobě, alespoň 2 kusy nemusí být ekvivalentní s verzí na CD-ROM Počítač filtru: SW a HW musí pracovat v 64-bit architektuře, operační paměť RAM počítače filtru je alespoň 32 GB Alespoň 1 off-line licence SW pro samostatně stojící počítač pro analýzu EELS spekter
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano Ano
Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
► Počítače mikroskopu a jeho příslušenství s1
Dodané počítače pro mikroskop TEM musí umožnit akvizici a zpracování dat z analytických systémů mikroskopu vč. detektorů EDS a EELS
s11 s12 s13
Na všech dodaných počítačích musí být nainstalován operační systém MS Windows, který je optimální pro dodaný mikroskop TEM. Systém MS Windows musí být kompatibilní s používaným systémem Zadavatele, tj. Windows verze 7 Mikroskop a všechen dodaný SW musí být kompatibilní s HW a operačním systémem dodaných počítačů Operační systém a architektura SW a HW všech dodaných systémů mikroskopu TEM je 64-bit. Dodané počítače všech systémů mikroskopu TEM mají operační paměť RAM alespoň 32 GB HW počítačů: Výkon procesoru dodaných počítačů - podle hodnocení v PassMark - CPU Mark 1. pevný disk pro operační systém: SSD 2. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu 3. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Pevné disky 2. a 3. musí umožnit tzv. zrcadlení (mirroring) svazku pro dosažení vysoké bezpečnosti archivace dat Velikost operační paměti RAM dodaných počítačů DVD mechanika s vypalovačkou CD/DVD, alespoň 16x DVD+/-RW Ovládací rozhraní TEM:
s14
Pro posun vzorku ve všech hlavních režimech měření musí být k dispozici m.j. „trackball“
s15 s16
s20 s21 s22 s23 s24
Místní síť: Počítače mikroskopu TEM musí umožnit dálkovou diagnostiku servisním střediskem Dodaný mikroskop je možné dálkově ovládat z přilehlého počítačového centra na stejné chodbě pavilónu. Ovládání mikroskopu a jeho analytických systémů je zprostředkováno obdobným rozhraním jako v laboratoři TEM s využitím adekvátního SW. Monitory: Alespoň 3 samostatné LCD monitory pro mikroskop TEM (např. pro řídící SW mikroskopu, pro promítání obrazu kamer a pro analýzy EDS a EELS) Monitory musí být vyrobeny technologií IPS Úhlopříčka dodaných monitorů Minimální rozlišení monitorů Monitory lze vertikálně otočit o 90° (tj. ze ší řky na výšku) Tiskárna:
s25
Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) pro tisk pořízených dat v laboratoři TEM
s26
Kabinet(y) pro příslušenství mikroskopu:
s27
Úložné kabinety pro skladování všech samostatně stojících ovládacích jednotek mikroskopu a jeho příslušenství (např. elektronika EDS, EELS, EFTEM, kamery, STEM apod.)
s2 s3 s4 s5 s6 s7 s8 s9 s10
s17 s18 s19
Ano
Ano
Ano
Ano
Hodnoticí parametr
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
Alespoň 8000 či více Alespoň 500 GB či více Alespoň 2 TB či více Alespoň 2 TB či více
vyplní uchazeč vyplní uchazeč vyplní uchazeč vyplní uchazeč
Ano
Ano
Alespoň 4 GB či více Ano
vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Hodnoticí parametr
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne)
Ano
Ano
Ano Alespoň 24 palců či více 1920×1080 pix či lepší Ano
vyplní uchazeč vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
► Periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM t1 t2
Periferní zařízení budou umístěna v místosti č. 161 - Technická místnost TEM, případně v místosti č. 140 - Laboratoř TEM UPS
t3 t4 t5 t6 t7 t8 t9
Minimální výdrž UPS při výpadku proudu a při chodu mikroskopu na plný výkon (tj. všeho příslušenství mikroskopu a všech periferních zařízení mikroskopu (vč. chladícího okruhu)) Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu UPS musí napájet také uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM Uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM Kompresor Rotační vakuové vývěvy Rotační vývěvy a kompresor nesmí při svém chodu ovlivňovat mikroskop vibracemi
Alespoň 30 minut či více
vyplní uchazeč
Ano Ano Ano Ano Ano
Hodnotící parametr vyplní uchazeč (Ano / Ne) Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano Ano Ano
Ano Ano Ano Ano Ano
Ano
Ano
Hodnoticí parametr
► Aktivní kompenzace elektromagnetického pole u1 u2 u3 u4 u5 u6 u7 u8 u9
Toto zařízení musí umožnit kompenzaci vnějšího elektromagnetického pole, které může působit na dodaný mikroskop od okolních zařízení či technologií a významně degradovat analytické schopnosti dodaného mikroskopu Systém aktivní kompenzace musí být vhodný pro dodaný mikroskop s instalovaným energiovým filtrem Systém aktivní kompenzace musí rušit DC i AC složku elektromagnetického pole Frekvenční rozsah kompenzace musí být alespoň do 1 kHz či více Systém aktivní kompenzace musí pracovat alespoň s 6 Helmholtzovými cívkami Systém aktivní kompenzace musí podporovat 2 senzory elektromagnetického pole Systém aktivní kompenzace musí být dodán s 2 senzory elektromagnetického pole Systém aktivní kompenzace musí měřit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z Systém aktivní kompenzace musí rušit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z
► Plasma cleaner v1 v2 v3 v4 v5 v6 v7
Plasma cleaner musí umožnit čištění vzorků a TEM držáků od povrchové organické kontaminace Plasma cleaner musí být nainstalován v místnosti přípravny vzorků pro TEM a SEM Plasma cleaner musí čistit vzorky alespoň směsí tvořenou plyny O2, Ar Plasma cleaner musí umožnit čištění TEM držáků s upevněnou tenkou fólií Plasma cleaner musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu Plasma cleaner musí mít port vhodný pro čištění vzorků pro SEM Plasma cleaner musí být dodán s příslušenstvím nezbytným pro čištění SEM vzorků (tj. vhodný držák vzorků apod.)
► Vakuová stanice pro TEM držáky Ano
Ano
w2 w3 w4 w5
Vakuová stanice musí umožnit dlouhodobé uchování citlivých částí TEM držáků a uskladnění TEM vzorků ve vakuu, tj. v čistém a suchém prostředí, které chrání držáky a vzorky vůči vzdušné kontaminaci Vakuová stanice musí umožnit uchování držáků a vzorků pod vakuem alespoň Vakuová stanice a její příslušenství bude instalované v laboratoři TEM Vakuová stanice musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu V dodávce musí být alespoň 2 schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků
≤ 1x10-4 Pa Ano Ano Ano
vyplní uchazeč
w6
Schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků musí být kompatibilní s dodanou stanicí
Ano
Ano
w7
Počet portů pro uskladnění TEM držáků
Alespoň 2 či více
vyplní uchazeč
w1
Ano Ano Ano
w8
Počet portů pro uskladnění TEM vzorků
Alespoň 2 či více
vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano ≥ 50x
Ano
vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano
Ano Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
≥ 4 Mpix Ano Ano Ano Ano Ano
vyplní uchazeč
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano Ano Ano
Ano Ano Ano
Ano
Ano
► Stereomikroskop x1 x2 x3 x4 x5 x6 x7 x8 x9 x10 x11 x12 x13 x14 x15 x16 x17 x18 x19 x20 x21
Stereomikroskop musí umožnit přesné manuální zakládání TEM vzorků do TEM držáků a k digitální dokumentaci TEM vzorků. Toto zařízení bude instalované v laboratoři TEM Optický systém stereomikroskopu: Okuláry stereomikroskopu musí být nezávisle zaostřitelné pro korekci vad zraku alespoň ± 3 dioptrie či vyšší Okuláry musí být skloněny směrem k operátorovi vůči ose objektivu alespoň o 20° Požadované užitečné zvětšení stereomikroskopu maximální Konstrukce stereomikroskopu: Stereomikroskop musí být zkonstruovaný tak, aby umožnil zakládání vzorku do dodaných TEM držáků za současného sledování místa zakládání vzorku okuláry stereomikriskopu operátorem Stereomikroskop má port pro zasunutí CCD kamery Světelný zdroj stereomikroskopu: Součástí dodávky stereomikroskopu musí být světelný zdroj Dodaný světelný zdroj musí umožnit změnu intenzity osvětlení Součástí světelného zdroje musí být dva flexibilní světlovody umožňující variabilní boční osvětlení vzorku CCD kamera stereomikroskopu: Stereomikroskop musí být dodaný s kompatibilní CCD kamerou umožňující fotodokumentaci vzorků Minimální rozlišení dodané CCD kamery musí být Dodaná CCD kamera musí umožňovat barevný záznam obrazu Dodaná CCD kamera musí mít USB port alespoň 2.0 pro přímé spojení s PC Dodaná CCD kamera musí mít port pro paměťové médium Dodaná CCD kamera musí umožňovat záznam do formátu alespoň JPG a TIFF CCD kamera musí být dodána spolu se SW k jejímu ovládání a pro záznam obrazu
Ano Ano Ano Ano Ano
► Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků y1 y2
Toto zařízení musí umožnit lapování rovinných či příčných TEM vzorků na tloušťky cca 20 µm (např. před použitím FIB techniky "H-bar") Zařízení musí mít 3 mikrometrické šrouby, které musí umožnit přesné nastavení držáku pro lapování vzorků
► Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií z1 z2 z3 z4 z5
Toto zařízení musí umožnit elektrolytické ztenčování tenkých fólií, kdy vzniká uprostřed vzorku díra s okrajem transparentním pro elektrony urychlených v mikroskopu TEM na napětí 200 kV či nižší Toto zařízení bude instalované v přípravně vzorků TEM a SEM Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 3 mm Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 1 mm V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 3 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy
z6 z7 z8 z9 z10 z11 z12 z13 z14 z15
V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 1 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy Zařízení musí mít dvě souosé a protichůdně směrované trysky pro oboustranné leštění vzorku Zařízení musí umožňovat regulaci průtoku elektrolytu tryskami pro optimalizaci podmínek elektrolýzy Zařízení musí mít funkci citlivé detekce okamžiku perforace fólie umožňující okamžité a automatické zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie Zařízení musí mít signalizaci okamžiku perforace fólie světelným nebo zvukovým signálem Zařízení musí umožňovat vypnutí funkce automatického zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie Řídící a monitorovací jednotka zařízení elektrolytické leštičky Zařízení musí mít digitální displeje monitorující parametry elektrolýzy pro možnost přesného nastavení a kontrolu podmínek elektrolýzy Zařízení musí umožňovat nastavení parametrů elektrolýzy, jmenovitě alespoň napětí a intenzitu průtoku elektrolytu tryskami Zařízení musí mít tlačítko ON/OFF pro centrální vypnutí elektrolytického leštění
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Ano
Prodávající prohlašuje, že dodávka tvořená výše uvedenými zařízeními bude vyhovovat všem požadavkům Kupujícího uvedeným v bodě 1 této přílohy. Pokud by se v průběhu přípravy a realizace dodávky ukázalo, že ke splnění požadavků Kupujícího uvedených v bodě 1 této přílohy a garantovaných hodnot uvedených v bodě 2 této přílohy jsou nezbytná další zařízení či práce, zavazuje se Prodávající dodat tato zařízení a provést tyto práce jako součást své dodávky bez zvýšení Kupní ceny (zmíněné dodávky a práce nebudou mít charakter víceprací).
