Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
PENGARUH IMPLANTASI ION YTTRIUM (Y) TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI SUHU TINGGI MATERIAL FeAl DAN KARAKTERISASINYA Anis Yuniati Fakultas Saintek, Universitas Islam Negeri Sunan Kalijaga, Yogyakarta
Kusminarto Fakultas MIPA, Universitas Gadjah Mada, Yogyakarta
Sudjatmoko PTAPB-BATAN, Yogyakarta
ABSTRAK Telah dilakukan implantasi ion elemen reaktif yttrium (Y) pada material FeAl dengan tujuan untuk menyelidiki pengaruh terhadap sifat ketahanan oksidasinya menggunakan mesin implantor ion 200 keV/2 mA. Implantasi ion dilakukan pada energi 100 keV dan 3 (tiga) variasi dosis ion yaitu 2,981.1015 ion/cm2; 5,963.1015 ion/cm2 dan 8,945.1015 ion/cm2. Uji ketahanan oksidasi secara siklus termal selama 6 siklus dilakukan dalam tabung furnace tipe RTI/AGG dengan parameter tegangan/arus: 220/45 volt/ampere, frekuensi: 50-60 Hertz, suhu maksimum 1000°C yang dialiri gas oksigen dengan kecepatan alir 4,17 cc/menit, suhu 8500C, waktu pemanasan 5 jam dan waktu pendinginan 17 jam. Perubahan sifat ketahanan oksidasi diamati dengan cara menimbang perubahan berat dari sampel untuk setiap siklus baik untuk material yang diimplantasi maupun yang tidak diimplantasi. Juga dilakukan karakterisasi untuk mengamati perubahan struktur mikro dan komposisi kimia menggunakan Scanning Electron Microscopy (SEM) yang dikopel dengan EDAX tipe JEOL JSM-35C. Dari uji siklus termal diperoleh hasil bahwa dosis optimum implantasi ion yttrium untuk meningkatkan ketahanan oksidasi material FeAl adalah sebesar 2, 981.1015 ion/cm2. Dari pengamatan struktur mikro diperoleh hasil bahwa selama oksidasi siklus termal ternyata terjadi perubahan butir-butir yaitu semakin membesar. Juga dari analisis menggunakan EDAX teramati senyawa oksida protektif seperti Y2O3 yang menyebabkan sifat ketahanan oksidasinya meningkat. Dari pengamatan komposisi kimia teramati bahwa pada dosis optimum terbentuk lapisan oksida yttrium sebesar 0,68 % massa. Kata kunci : implantasi ion, ketahanan oksidasi, yttrium
ABSTRACT Implantation of reactive elements ion of yttrium (Y) into FeAl materials with the purpose to investigate their effects on oxidations resistance has been done using 200 keV/2 mA ion implantor. Ion impantation process has been done at energy of 100 keV and three varied of dose such as 2,981.1015 ion/cm2; 5,963.1015 ion/cm2 and 8,945.1015 ion/cm2. Testing of oxidation resistance for thermal cycling conditions for 6 cycling has been carried out in furnace tube RTI/AGG, with the following parameters, voltage/current: 220/45, freqeuncy: 5060, temperature max 1000°C type, introduced by oxygen gas with the flow rate 4,17 cc/minute, 8500C of temperature, 5 hours of exposure time and 17 hours of cooling time. Changing of oxidation resistance was observed by weighing the mass changing of the samples for each cycling for implanted and un-implanted materials. It was also observed the changing of microstructure and chemical compositions using Scanning Electron Microscopy (SEM) coupled with EDAX (Energy Dispersive X-Rays Spectroscopy) of JEOL JSM35C type. From thermal cycling testing, it was found that the optimum ion dose for yttrium ions is in order of 2,981.1015 ion/cm2. From microstructure observation, it was found that during thermal cycling oxidation the grain size is growth. It was also found the formed oxide compounds as a protective layer is Y2O3. Chemical composition analysis showed that at the optimum ion dose the content of yttrium oxide layer is in order 0,68 %mass. Key words : ion implantation, oxidation resistance, yttrium
Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya Vol. 10, Oktober 2008 : 48 – 56
48
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
PENDAHULUAN
Jangkauan Ion
ada umumnya logam-logam pada suhu tinggi akan sangat mudah rusak, karena adanya reaksi yang cepat dengan oksigen dari udara kecuali untuk logam mulia (Rachmat Supardi, 1997). Untuk menekan kemungkinan terjadi oksidasi dan proses korosi lainnya perlu dikembangkan material yang mampu bertahan pada suhu tinggi. Material alternatif yang telah ditemukan dan mampu mengganti paduan super di antaranya adalah paduan biner TiAl dan FeAl. Telah diketahui dari peneliti-peneliti sebelumnya bahwa perlakuan permukaan dengan penambahan elemen reaktif seperti Y, Ce dan La pada dosis dan kedalaman tertentu dapat meningkatkan ketahanan oksidasi logam atau paduan logam (Varma, 2001). Modifikasi permukaan bahan menggunakan implantasi ion bertujuan untuk pelapisan permukaan dengan cara mengimplantasikan atom asing ke dalam bahan sehingga terbentuk paduan lapisan tipis pada permukaan dengan konsentrasi dan kedalaman tertentu.
Berkas ion dengan energi awal E0 (keV), dalam perjalanan memasuki sasaran karena berinteraksi dengan elektron maupun inti sasaran akan kehilangan energinya dan akhirnya berhenti pada tempat tertentu (Ryssel dan Ruge, 1986).
P
TEORI
Prinsip kerja mesin implantasi ion adalah ketika ion dopan yang diproduksi dalam sumber ion dipercepat dalam tabung akselerator, berkas ion ini dilewatkan pada sebuah lensa kuadrupol agar dapat terfokus pada satu titik yang diinginkan. Untuk mendapatkan ion dopan yang benar-benar murni maka berkas ion dilewatkan ke magnet pemisah dan selanjutnya mengenai permukaan material sasaran. Dosis ion didefinisikan sebagai jumlah ion yang sampai pada permukaan sasaran persatuan luas (ion/cm2). Besaran ini akan menentukan jumlah atau prosentase ion yang terimplantasi. Nilai dosis ion sebagai fungsi arus berkas ion dan lamanya proses implantasi (detik) dapat dihitung melalui persamaan (Kusminarto, dkk, 1999): It D = e Aberkas
(1)
dengan = = = = =
dosis ion (ion/cm2) arus berkas ion (ampere) lamanya proses implantasi (detik) luasan berkas (cm2) muatan keunsuran elektron (1,602.10-19 coulomb)
PENGARUH IMPLANTASI ION YTTRIUM (Y) TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI SUHU TINGGI MATERIAL FeAl DAN KARAKTERISASINYA
Anis Yuniati, dkk.
(2)
dengan N = rapat massa pusat hamburan dari bahan target Se = daya henti elektronik Sn = daya henti nuklir Jarak total yang ditempuh oleh ion dalam material sasaran dihitung pada saat ion masuk sasaran sampai ion berhenti di suatu lokasi dalam kisi-kisi atom sasaran dan disebut jangkauan ion. Secara matematis jangkauan ion dalam suatu bahan dapat ditulis dalam bentuk persamaan (Dearnaley, 1973) : Rt =
Dosis Ion Dopan
D I t A e
dE ⎛ dE ⎞ ⎛ dE ⎞ =⎜ ⎟ +⎜ ⎟ = N (S e + S n ) dx ⎝ dx ⎠ e ⎝ dx ⎠ n
dengan Rt = mi = ms = zi = zs = E =
0,6m s (mi + m s ) ( z i mi z i z s
2
3
2
+ zs 3 )
1
2
E
(3)
jangkauan ion (cm) massa atom ion (amu, gram) massa atom sasaran (amu, gram) nomor atom ion nomor atom sasaran energi ion datang (keV)
Untuk keperluan teknis, didefinisikan suatu besaran jangkauan ion yang searah dengan arah ion mulamula, dan besaran ini dinamakan jangkauan terproyeksi (Rp). Perbandingan jangkau total dengan jangkau terproyeksi dinyatakan dengan persamaan (Dearnaley, 1973) Rt ⎫ 1⎧ (1 + A) ⎛1− A ⎞ = ⎨(5 + A) arccos⎜ ⎟ − 1 − 3 A⎬ Rp 4 ⎩ + A 2A 1 ⎝ ⎠ ⎭
(4)
dengan A = ms / mi Bila ms < mi, maka persamaan di atas dapat didekati dengan persamaan berikut
Rt m A = 1+ s = 1+ Rp 3mi 3
(5)
Bentuk lintasan ion dopan dalam suatu material dapat digambarkan seperti pada Gambar 1. 49
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
Gambar 1. Lintasan ion dopan dalam material target.
Rp =
i
∑ Ri
(6)
1
Jumlah tumbukan dan perpindahan energi untuk setiap kali tumbukan adalah bersifat acak, sehingga suatu ion dopan dengan energi awal sama akan mempunyai jangkau yang berbeda. Perbedaan jangkauan ini mengakibatkan adanya simpangan baku distribusi ion terproyeksi ( σ Rp ). Besarnya simpangan baku tersebut adalah (Ishikawa, 1994)
σ Rp
3 mi + m s ⎡ mi ⎤ = ⎢ ⎥ 4 ( mi + m s ) ⎣ m s ⎦
1
2
Rp
(7)
Kinetika Oksidasi Seringkali tegangan dalam yang bersifat kompresif berkembang dalam oksida ketika oksida itu menebal. Jika tegangan yang berkembang itu kecil, maka retak-retak atau cacat-cacat akan menjadi rapat sehingga dapat menghambat laju oksidasi. Jika tegangan itu cukup besar, ikatan antara oksida dan logam bisa terputus sehingga lapisan itu akan pecah dan mengelupas. Pengelupasan itu terjadi akibat perpatahan lapisan antar muka antara logam dan oksida. Oksidasi adalah proses elektrokimia yang menghasilkan penambahan bilangan oksidasi dari suatu atom atau beberapa atom (dalam molekul) karena kehilangan elektron. Ketahanan oksidasi dari lapisan oksida dapat diuji dengan oksidasi isothermal, oksidasi siklik (siklus termal) dan hot corrosion dalam larutan garam. Laju oksidasi dapat dihitung dari besarnya perubahan massa tiap satuan luas. ∆W = k t
(8)
dengan ∆W
= perubahan massa tiap satuan luas (g.cm-2)
Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya Vol. 10, Oktober 2008 : 48 – 56
k t
= konstanta laju oksidasi (g.cm-2s-1) = waktu oksidasi (s)
Berdasarkan persamaan Arrhenius penebalan oksida merupakan proses aktivasi termal dengan konstanta laju oksidasi (Smallman,1991) k = k 0 exp [−
Q ] RT
(9)
dengan Q = energi aktivasi untuk proses difusi pengendali laju oksidasi (J/mol) R = tetapan gas universal (8,31J/mol K) T = suhu (K) Laju penebalan selaput oksida bergantung pada suhu dan bahan. Oksida logam yang membentuk lapisan oksida mantap dan tidak mudah menguap akan berlangsung disertai penambahan berat yang bergantung pada waktu. Bila oksida yang terbentuk mudah menguap maka hilangnya berat juga sejalan dengan waktu. Laju oksidasi dapat ditentukan dengan menimbang berat oksida yang terbentuk sebagai fungsi waktu. Kinetika atau laju oksidasi pada dasarnya dapat dibagi dalam 3 kategori yaitu (Trethewey dan Chamberlain, 1991) : 1. Pertumbuhan Parabolik Apabila lapisan oksida tetap lekat ke permukaan logam dan menjadi penghalang yang homogen terhadap difusi ion-ion logam atau ionion oksida melalui lapisan itu, laju pertumbuhan oksida berbanding terbalik dengan tebal sesaat (instannaneous thickness) : dy / dt = c 1 /y
(10)
integrasi dari persamaan di atas adalah : 2
½ y = c1t
(11)
(apabila t = 0, y = 0; karena itu tetapan integrasi tidak diperlukan). Logam-logam yang ber-
50
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
oksidasi dengan laju parabolik biasanya dicirikan dari oksidanya yang tebal dan lekat. Contoh logam-logam ini adalah kobalt, nikel, tembaga dan tungsten. 2. Pertumbuhan Garis Lurus Dalam hal ini laju oksidasi konstan terhadap waktu : dy / dt = c2
(12)
bila persamaan di atas diintegrasikan menghasilkan : y = c2 t
(13)
Pertumbuhan garis lurus atau rektilinier terjadi bilamana oksida tidak mampu merintangi masuknya oksigen ke permukaan logam, sebagaimana terjadi bila oksida yang terbentuk dari volume logam tertentu terlalu kecil untuk melapisi seluruh permukaannya. Jika oksida retak atau terkelupas akibat besarnya tegangan dalam, maka pola pertumbuhan yang terjadi adalah serangkaian pendek tipe parabolik yang bila diamati secara keseluruhan akan tampak linier. Keadaan seperti ini disebut paralinier. Ini bisa terjadi bila siklus suhu cukup untuk membentuk perbedaan-perbedaan kontraksi dan ekspansi antara logam dan oksida yang membuat oksida terlepas dari logam. Pertumbuhan garis lurus ini dialami oleh logam yang diproses pada suhu tinggi, contohnya besi di atas 1000 °C dan magnesium di atas 500 °C. 3. Pertumbuhan Logaritmik
Pada suhu rendah, permukaan akan terlapisi dengan lapisan oksida tipis. Laju difusi menembus lapisan ini sangat rendah dan sesudah pertumbuhan yang cepat dalam periode awal berlalu, laju penebalan akhirnya menjadi nol. Persamaan untuk laju seperti ini adalah : y = c3 log (c4 t + c5 )
(14)
Contoh logam-logam yang teroksidasi dengan cara seperti di atas adalah magnesium di bawah 200 °C dan aluminium di bawah 50 °C. *y = tebal oksida; t = waktu; c1 hingga c5= tetapan-tetapan.
TATA KERJA DAN PERCOBAAN Proses implantasi ion Yttrium dilakukan dengan akselerator implantasi ion 200 keV/2mA buatan PTAPB BATAN. Dalam pelaksanaan implantasi ion, dosis ion divariasi dengan cara mengubah waktu lamanya proses implantasi (600, 1200, dan 1800) detik, sedangkan energi dan arus ion dibuat konstan masing-masing sebesar 100 keV dan 10 µA. Penimbangan berat dilakukan dalam dua tahap yaitu setelah sampel diimplantasi dan setelah uji oksidasi siklus termal. Hal ini untuk mengetahui perubahan berat material sebagai akibat siklus termal. Uji oksidasi dilakukan dalam media oksigen kering yaitu dengan mengalirkan oksigen dengan laju aliran 4,17 cc/menit dan tekanan 1 bar ke dalam tabung selama 6 siklus termal, dimana setiap siklus termal adalah 5 jam pemanasan pada suhu 850 °C dan pendinginan selama 17 jam pada suhu kamar 27 °C.
Gambar 2. Pertumbuhan lapisan oksida (Trethewey dan Chamberlain, 1991). PENGARUH IMPLANTASI ION YTTRIUM (Y) TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI SUHU TINGGI MATERIAL FeAl DAN KARAKTERISASINYA
Anis Yuniati, dkk.
51
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
HASIL DAN PEMBAHASAN Untuk mendapatkan data eksperimen yang akurat, terlebih dahulu dilakukan perhitungan teoritis tentang kedalaman maupun dosis ion menggunakan Program TRIM.
Tabel 1. Hasil perhitungan dari simulasi TRIM. σRp
Ion dopan
Energi ion (keV)
dE/dx elektron (eV/Å)
dE/dx inti (eV/Å)
Rp (Å)
(Å)
Y
100
3,284.102
3,210.103
263
104
Tabel 2. Variasi dosis ion dopan. Waktu implantasi (s)
Dosis ion × 1015 ion/cm2
Prosentase ion dopan (%)
1.
600
2,981
1,11
2.
1200
5,963
2,20
3.
1800
8,945
3,27
No
Y
Hasil karakterisasi menggunakan SEM memberikan morfologi permukaan material FeAl yang tidak diimplantasi dan yang diimplantasi dengan ion yttrium.
Gambar 3. Morfologi permukaan material FeAl yang tidak diimplantasi.
Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya Vol. 10, Oktober 2008 : 48 – 56
Gambar 4. Morfologi permukaan material FeAl yang diimplantasi ion yttrium dengan dosis a) 2,981.1015 ion/cm2 b) 5,963 . 1015 ion/cm2 c) 8,945.1015 ion /cm2. Material FeAl yang tidak diimplantasi mempunyai warna yang lebih terang dibandingkan material FeAl yang diimplantasi. Pada material FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium secara umum terlihat butiran-butiran kecil dan tersebar merata dengan susunan butiran yang teratur. Perbedaan banyaknya butiran dari masing-masing sampel yang diimplantasi dengan ion yttrium yang disebabkan oleh variasi dosis. Semakin besar dosis maka butiran yang terbentuk juga semakin banyak.
52
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
Gambar 5. Hasil pengamatan unsur material FeAl yang tidak diimplantasi dengan menggunakan EDAX.
Gambar 6.
a). Dosis 2,981.1015 ion/cm
2
b). Dosis 5,963.1015 ion/cm
2
c). Dosis 8,945.1015 ion/cm
2
Hasil pengamatan unsur material FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium dengan menggunakan EDAX.
PENGARUH IMPLANTASI ION YTTRIUM (Y) TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI SUHU TINGGI MATERIAL FeAl DAN KARAKTERISASINYA
Anis Yuniati, dkk.
53
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
Hasil karakterisasi EDAX pada sampel yang tidak diimplantasi terdapat unsur O, Al, Fe dan oksida Al2O3 dan FeO. Sedangkan pada material FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium terdapat unsur O, Al, Fe,Y dan oksida Al2O3, FeO dan Y2O3. Besarnya % massa unsur yttrium semakin bertambah sebanding dengan kenaikan dosis. 0.0008
0.0006
Perubahan Berat (gr/cm2)
0.0004
0.0002
0 0
1
2
3
4
5
6
7
Gambar 8. Morfologi permukaan material FeAl yang tidak diimplantasi setelah mengalami 6 siklus termal.
-0.0002
-0.0004
-0.0006
-0.0008
-0.001
-0.0012
Siklus Termal Non Implan
D1 Y
D2 Y
D3 Y
Gambar 7. Laju oksidasi FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium. Laju pertumbuhan selaput oksida yang terbentuk pada dosis 2,981.1015 ion/cm2 dan 5,963 .1015 ion/cm2 berbentuk parabolik. Untuk material FeAl yang diimplantasi dengan dosis 2,981.1015 ion/cm2 merupakan dosis yang paling optimum karena gradien kurva pembentukan oksida yttrium lebih landai berarti oksida tersebut bersifat protektif dan dapat menghambat laju difusi gas oksigen sehingga tidak terjadi oksidasi FeAl yang merugikan. Lapisan oksida yang terbentuk pada material FeAl yang tidak diimplantasi adalah FeO dan Al2O3. Lapisan oksida ini bersifat non protektif karena daya lekatnya kurang kuat sehingga setelah melewati proses siklus termal berat sampel semakin berkurang karena terjadi pengelupasan. Material FeAl yang diimplantasi dengan yttrium pada dosis 8,945.1015 ion/cm2 lapisan oksida yang terbentuk tidak protektif. Untuk dosis ion yang terlalu besar maka laju oksidasi cenderung cepat dan kurang merata sehingga lapisan oksida pelindung yang terbentuk daya lekatnya kurang kuat sehingga terjadi pengelupasan. Pembentukan oksida yang terlalu cepat apabila tidak diimbangi dengan ekspansi material induk akan menyebabkan mengelupasnya lapisan oksida. Setelah melewati 6 siklus termal dilakukan karakterisasi menggunakan SEM untuk mengamati morfologi permukaan material FeAl yang tidak diimplantasi dan yang diimplantasi dengan ion yttrium.
Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya Vol. 10, Oktober 2008 : 48 – 56
Gambar 9. Morfologi permukaan material FeAl yang diimplantasi ion yttrium setelah mengalami 6 siklus termal dengan dosis a) 2,981.1015 ion/cm2 b) 5,963.1015 ion/cm2 c) 8,945.1015 ion/cm2. Pada material FeAl yang tidak diimplantasi menunjukkan permukaan yang tidak rata dan tidak teratur. Pada permukaan sampel ini terbentuk lapisan oksida Al2O3 dan FeO yang mudah mengelupas jika mengalami oksidasi karena daya lekatnya yang lemah. Setelah mengalami uji oksidasi siklus termal morfologi permukaan material FeAl yang diimplantasi dengan yttrium terlihat lebih teratur daripada material FeAl yang tidak diimplantasi dan terjadi perubahan butir-butir yang semakin membesar. 54
Volume 10, Oktober 2008
ISSN 1411-1349
Hasil karakterisasi EDAX pada sampel yang tidak diimplantasi terdapat unsur O, Al, Fe, serta lapisan oksida Al2O3 dan FeO. Untuk material FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium terdapat unsur O, Al, Fe, Y serta lapisan oksida Al2O3, FeO dan Y2O3. Dari ketiga variasi dosis, lapisan oksida yttrium yang paling banyak adalah pada dosis 2,981.1015 ion/cm2, yang merupakan dosis yang paling optimum untuk meningkatkan ketahanan oksidasi.
Gambar 10. Kandungan unsur material FeAl yang tidak diimplantasi setelah mengalami 6 siklus termal.
KESIMPULAN Dari hasil penelitian ini dapat diperoleh beberapa kesimpulan sebagai berikut : 1. Dari ketiga variasi dosis implantasi dosis optimum penambahan yttrium pada FeAl adalah dosis 2,981.1015 ion/cm2.
a). Dosis 2,981.1015 ion/cm2
2. Dari pengamatan struktur mikro (SEM) menunjukkan permukaan material FeAl yang tidak diimplantasi tidak rata dan tidak teratur sedangkan permukaan material FeAl yang diimplantasi dengan yttrium setelah mengalami uji oksidasi siklus termal terlihat lebih teratur dan terjadi perubahan butir-butir yang semakin membesar. 3. Dari pengamatan komposisi kimia (EDAX) teramati bahwa pada dosis optimum terbentuk lapisan oksida yttrium (Y2O3) sebesar 0,68 %mass.
DAFTAR PUSTAKA b). Dosis 5,963.1015 ion/cm2
[1] DEARNALEY, G., Ion Implantation, North Holland Company, Amsterdam, 1973. [2] ISHIKAWA, J., Industrial Applications of Ion Beam, JSPS-KEK, International Spring School, 1994. [3] KUSMINARTO, MAHARTA, N., SUDJATMOKO., Pengaruh Dosis dan Energi Ion Nitrogen Terhadap Kekerasan Mikro Permukaan Baja AISI H13, Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya, BATAN, Yogyakarta, 1999.
c). Dosis 8,945.1015 ion/cm2
Gambar 11. Kandungan unsur material FeAl yang diimplantasi dengan ion yttrium pada 3 variasi dosis setelah mengalami 6 siklus termal. PENGARUH IMPLANTASI ION YTTRIUM (Y) TERHADAP SIFAT KETAHANAN OKSIDASI SUHU TINGGI MATERIAL FeAl DAN KARAKTERISASINYA
Anis Yuniati, dkk.
[4] RYSSEL, H., dan RUGE, L., Ion implantation, John Willey and Sons, London, 1986. [5] SMALLMAN, R.E., Metalurgi Fisika Modern, Gramedia Pustaka Utama, Jakarta, , 1991.
55
Volume 10, Oktober 2008
[6] SUPARDI, R., Korosi, Tarsito, Bandung, 1997. [7] TRETHEWEY, K.R. dan CHAMBERLAIN, Korosi Untuk Mahasiswa dan Rekayasawan, Gramedia Pustaka Utama, Jakarta, , 1991.
ISSN 1411-1349
mengalami penurunan. Pada dosis optimum, lapisan oksida Y2O3 yang terbentuk setelah siklus termal mengalami peningkatan jika dibandingkan sebelum oksidasi siklus termal.
[8] VARMA, K., Static and Cyclic Oxidation of Ti44Al and Ti-44Al-x Nb Alloys, Oxidation of Metals, , 2001.
Damunir
TANYA JAWAB
Anis Yuniati
Lely S. RM − Mengapa sebelum proses oksidasi sudah terbentuk lapisan oksidasi Y2O3? Dan bagaimana perbandingan jumlah lapisan oksidasi Y2O3 yang terbentuk sebelum dan sesudah oksidasi, apakah sesuai dengan hasil uji oksidasi pada suhu 800 oC?
− Apakah perubahan suhu campuran hasil implantasi campuran logam yang ibu pelajari, dilengkapi data analisis TGA? Bagimana?
− Seharusnya demikian, tetapi karena keterbatasan fasilitas maka dalam eksperimen ini belum dilengkapi dengan TGA.
Tjipto Sujitno − Kenapa % Y ata Ce hasil teori jauh berbeda dengan hasil pengamatan.
Anis Yuniati
Anis Yuniati
− Karena material pada suhu ruang telah mengalami oksidasi dengan lingkungan sekitar. Lapisan oksida Y2O3 yang terbentuk sebelum dan sesudah mengalami oksidasi siklus termal ada yang mengalami peningkatan dan ada yang
− Karena secara teoritis, semua ion dopan dapat terimplantasi ke dalam material. Sedangkan pada eksperimen, tidak semua ion dopan dapat masuk sampai dipermukaan material, misalnya terjadi efek samping.
Prosiding Pertemuan dan Presentasi Ilmiah Teknologi Akselerator dan Aplikasinya Vol. 10, Oktober 2008 : 48 – 56
56