Rekayasa dan Aplikasi Teknologi Plasma dan Ozon dalam Intensifikasi Proses: Menuju Industri Proses Berkinerja Tinggi yang Berwawasan Lingkungan
Setijo Bismo
Pidato pada Upacara Pengukuhan Sebagai Guru Besar Tetap dalam Bidang Ilmu Teknologi Plasma dan Ozon Fakultas Teknik Universitas Indonesia Depok, 13 Januari 2010
Setijo Bismo
Kutipan Pasal 72, Ayat 1, 2, dan 3, Undang-undang Republik Indonesia No. 19 Tahun 2002 tentang HAK CIPTA: (1) Barangsiapa dengan sengaja dan tanpa hak melakukan perbuatan sebagaimana dimaksud dalam Pasal 2 ayat (1) atau Pasal 49 ayat (1) dan ayat (2) dipidana dengan pidana penjara masing-masing paling singkat 1 (satu) bulan dan/atau denda paling sedikit Rp1.000.000,00 (satu juta rupiah), atau pidana penjara masing-masing paling singkat 1 (satu) bulan dan/atau denda paling sedikit Rp1.000.000,00 (satu juta rupiah), atau pidana penjara paling lama 7 (tujuh) tahun dan/atau denda paling banyak Rp5.000.000.000,00 (lima miliar rupiah). (2) Barangsiapa dengan sengaja menyiarkan, memamerkan, mengedarkan, atau menjual kepada umum suatu Ciptaan atau barang hasil pelanggaran Hak Cipta atau Hak Terkait sebagaimana dimaksud pada ayat (1) dipidana dengan pidana penjara paling lama 5 (lima) tahun dan/atau denda paling banyak Rp500.000.000,00 (lima ratus juta rupiah). (3) Barangsiapa dengan sengaja dan tanpa hak memperbanyak penggunaan untuk kepentingan komersial suatu Program Komputer dipidana dengan pidana penjara paling lama 5 (lima) tahun dan/atau denda paling banyak Rp.500.000.000,00 (lima ratus juta rupiah).
Rekayasa dan Aplikasi Teknologi Plasma dan Ozon dalam Intensifikasi Proses: Menuju Industri Proses Berkinerja Tinggi yang Berwawasan Lingkungan / Setijo Bismo. ‐‐ Jakarta : Lembaga Penerbit Fakultas Ekonomi Universitas Indonesia, 2010. ISBN Layout : Sudarto Hak Cipta © 2010 : Pada Penulis Hak Penerbitan : pada Lembaga Penerbit Fakultas Ekonomi Universitas Indonesia
ii
Rekayasa dan Aplikasi Teknologi Plasma dan Ozon dalam Intensifikasi Proses: Menuju Industri Proses Berkinerja Tinggi yang Berwawasan Lingkungan
Daftar Isi halaman Kata Pengantar ............................................................................
iv
Penghormatan dan Salam Pembukaan Pidato .......................
1
Intensifikasi Proses .....................................................................
2
Teknologi Plasma .......................................................................
4
Teknologi Ozon ...........................................................................
6
Sistem Industri Proses Kimia ....................................................
8
Kondisi Operasi, Katalis dan Produksi Limbah .....................
9
Ada di manakah kita semua? ....................................................
11
Terobosan dan Sumbangsih Teknologi Alternatif .................
12
Reaktor Plasma Membran Katalitik ...............................
13
Reaktor Monolith dengan Eksitasi Reaktan Gas ..........
14
Teknologi Ozon untuk Pengolahan Air ........................
15
Penutup dan Salam Akhir Pidato .............................................
16
Daftar Pustaka .............................................................................
19
Riwayat Hidup ............................................................................
22
Data Pribadi ......................................................................
22
Riwayat Pendidikan .........................................................
22
Riwayat Pekerjaan ............................................................
23
Riwayat Penelitian ...........................................................
24
Karya Ilmiah dan Publikasi (5 tahun terakhir) .......................
26
Afiliasi Profesi .............................................................................
29
iii
Setijo Bismo
Kata Pengantar Sejak penerapannya di perusahaan ICI pada beberapa dekade yang lalu, konsep Intensifikasi Proses telah mendapat sambutan dan diterima di dunia ilmiah sebagai titik pangkal perbaikan kinerja yang substansial, terutama untuk alat‐alat proses dan pemroses yang memegang peran penting dalam industri proses kimia, dan semakin maju dikembangkan dalam tataran fenomena‐ fenomena perubahan mikro, nano ataupun sub‐atomis, baik yang bersifat non‐oksidatif atau pun oksidatif yang dikenal sebagai Teknologi Plasma, dan teknologi proses oksidatif spesifik yang disebut Teknologi Ozon. Dewasa ini, berbagai alat‐alat proses dan pemroses seperti alat‐alat penukar panas, reaktor kimia, dan unit‐unit pemisahan telah banyak mengalami sentuhan konsep intensifikasi proses, dan bahkan juga telah berkembang dengan baik di luar ranah industri proses kimia terutama pada sektor‐sektor proses lainnya, termasuk proses pertanian, manajemen pengendalian panas komponen elektronika, dan sistem pendinginan udara domestik. Penelitian‐penelitian yang semakin luas dilakukan memerlukan hal‐hal penting tentang perbaikan dan perhatian pada aspek‐aspek terkait dengan masalah energi, konversi bahan baku dan lingkungan hidup secara lebih terpadu. Hal‐hal penting tersebut adalah tentang kejelian, intuisi dan imajinasi yang baik dalam implementasi sistem produksi, minimisasi limbah dan atau pengendalian pencemaran, yang diikuti dengan aplikasi metode‐metode baru dalam penanggulangan masalah dan kendala yang ada. Dalam buku pidato yang tipis ini akan diberikan beberapa contoh secara singkat, tentang konsep teknologi alternatif berupa terobosan untuk penanggulangan masalah pokok dari industri proses, yaitu: Reaktor Plasma Membran Katalitik, Reaktor Monolith dengan Eksitasi Reaktan Gas, dan Teknologi Plasma dan Ozon untuk Pengolahan Air. Depok, 13 Januari 2010 Setijo Bismo iv
Mohon Maaf Apabila Bapak/Ibu memerlukan isi Buku Pidato Pengukuhan Guru Besar saya yang selengkapnya, saya persilakan mengirimkan permohonan penyalinan melalui EMAIL yang dialamatkan ke:
[email protected]
atau
[email protected]
atau melalui kantor kami: Departemen Teknik Kimia FTUI Kampus Baru UI Depok Depok 16424 Telp. 021-78631516 ex. 0 Faks. 021-78631515
Terima kasih atas perhatian dan kerjasamanya.
(Prof. Dr. Ir. Setijo Bismo, DEA.)
