Prosiding Pertemuanllmiah Ilmu Pengetahuandan TeknologiBahan 2002 Serpong,22 -23 Oktober2002
ISSN1411-2213
DEPOSISI LAPISAN TIPIS AIZn UNTUK PELINDUNG Fe BENTUK AS TERHADAP KOROSI CAIRAN GARAM Yunanto, BA Tjipto Sujitno daDSuprapto Puslitbang Teknologi Maju (P3TM) -BATAN JI. Babarsari, Kotak Pas : 8 Yogyakarta 5500
ABSTRAK DEPOSISI LAPISAN TIPIS AIZn UNTUK PELINDUNG Fe BENTUK AS TERHADAP KOROSI CAIRAN GARAM. Telah dilakukan deposisi tipis AlZn pada substratFe bentuk as dengan teknik sputtering silinder. Tujuan penelitian ini memberikan perlindungan Fe bentuk as terhadap korosi air yang mengandung garam dengan lapisan tipis AlZn. Tempat substrat bertungsi juga sebagai anoda, sedangkan target daTiAlZn sebagaikatoda. Ion argon daTianoda menembaki target utama AI dan target pinhole Zn dengan energi yang cukup kuat untuk melepaskanatom AIZn. Atom AlZn akan terhambur ke segala arah dan sebagianditarik oleh anoda membentuk lapisan tipis AlZn pada permukaan Fe. Untuk mengetahui unsur AlZn telah merekat pada substrat Fe dilakukan pengamatanunsur dengan APNC dan laju korosi dengan potensiostat. Kondisi optimum proses sputtering pada parameter tegangan 1.000 volt, waktu deposisi 30 menit. tekanan 8x1O.2torr. Dari hasil pengukuran yang dilakukan diperoleh penurunan laju korosi daTi 1,72 mpy menjadi 0,42 mpy pada prosentasekandungan Al 47 % dan Zn 8,3 % Kala kunci
,apisan tipis AlZn,
korosi, teknik sputtering.
ABSTRACT DEPOSITION OF AIZn THIN FILM FOR PROTECTING LAYER OF Fe CYLINDRYCAL SHAPE UNDER SALT LIQUm CORROSION ATTACK. Deposition of AIZn thin film on Fe using sputtering technique has been carried out. The purpose of this research is to make AlZn protection layer of Fe under salt liquid corrosion attack. In this experiments substratas an anode while AlZn target as a cathode.Energetic argon ion bambardedthe main targets AI and Zn pinhole, henceforth the AI and Zn atoms will release from the surface. AI or Zn atoms scatters in random direction and some of these atom will be withdrawn by anode to form a thin layer on the surface of Fe. Chemical composition of thin layer was analysed using FNAA while corrosion rate was analysed using potensiostat. It was found that the optimum conditions was achieved at 1,000 Volt voltage, 8x10.2 torr pressure,30 minutes time deposition. At this condition the corrosion rate decreased from 1.72 mpy to 0.42 mpy. From FNAA analysis, it was found that at the optimum conditions, the content of AI and Zn was 47 % wt and 8.3 % wt respevtively. Key word\' : Alln thin film, corrosion, sputtering technique.
PENDAHULUAN Lambung kapal, anjungan pengeboran lepas pantai, pipa minyak bawah laut dan komponen yang berbentuk as hams yang selalu bersinggungan dengan air laut hams dilindungi terhadap serangan korosi air yang mengandunggararn (cairan agresit). Demikian juga knalpot kendaraan bermotor yang terkena suhu tinggi dan gas daTi reaksi pembakaran mesin motor bakar, bagian-bagian tersebut perin dilindungai dengan suatu lapisan tipis pencegah korosi. Selama ini untuk
meningkatkanketahanankorosi bagian tersebut menggunakan bahan Cd atau Zn sebagaipelindung dan sebagaianodatumbal (~acrificial anode) menggunakan teknik cair yaitu elektro plating (penyepuhan) Pada teknik ini bahan Cd akan mengeluarkan polusi beracun yang berbahayabagi lingkungan. Atau bisa juga bahan Zn hanya dilapiskan dengan penyemprotan panas. Untuk lebih meningkatkan ketahanan korosi terhadap
114
cairan garam maupun suhu tinggi akhir-akhir ini dikembangkan paduan dua bahan AlZn[ 1,2]. Untuk teknik elektro plating bahan Fe dan bahan AlZn direndam padacairan elektrolit yang mengandung garam-garampenyuiut. Bahan Zn diberi potensial positif (anoda), sedangkan bahan Fe diberi potensial negatif (katoda)maka pada elektrolit akan timbul arus yang akan melarutkan bahan AlZn pada bahan Fe. Dengan mengatur kekentalan elektrolit daD bentuk daTi anoda dan katoda dapat dikendalikan ketebalan pelapisan bahan AlZn pada bahan Fe [ 1 ]. Lapisan tipis Zn akan memberikan perlindungan yang luar biasa seandainya logam itu dapat dilarutkan dengan laju yang konstan. Bahan Zn terkorosi pada air laut membentuk selapis kulit kedap air yang membatasi keluaranarus.Diantara bahan tidak murni besi,tembaga, timbal yang paling menimbulkan efek merusak terhadap
DeposisiLapisan Tipis AlZn untuk Pelindung Fe Bentuk AS TerhadapKorosi Cairan Garam (Yilnanto)
anodaadalahbesi,karenakelarotannyasangatrendah. Hal ini dapatmenimbulkanpembentukanselgalvanik lokal yangmenghasilkansuatulapisansenghidroksida atau seng karbonat yang tidak bisa larut dan menghantarkanlistrik yang menyebabkan anodatidak efektif. Dengan menambahkan Al pacta Zn akan menyebabkanterbentukantar logam aluminium besi yang lebih tidak mulia yang akanmengurangiefeksel korosilokal.
HIPOTESIS Setiap logam akan terkena korosi bila bersinggungan dengan udara, suatu cairan atau cairan yang mengandung garam (cairan agresif). Untuk menghambat laju korosi dilakukan dengan memberi lapisan pelindung yang dapat mengurangi arus elektron, mengubahpH atau penghantaran ion melalui elektrolit. Untuk logam yang digunakan pactalingkungan air taut jalan yang dapat dilakukan adalah dengan memberikan cairan inhibitor (kurang praktis) atau melindungi logam tersebut dengan memberikan lapisan tipis yang tahan terhadap garam. Lapisan tipis AlZn merupakan salah satu paduan yang tahan terhadap cairan mengandung garam Penggunaan bahan Al disebabkankarena bahan ini termasukbahan yang aktjf. hila pada lingkungan yang mengandung oksigen maka pada permukaan Al akan terbentuk lapisan tipis yang dapat memisahkan antara permukaan Al dengan lingkungannya, sehingga akan meningkatkan ketahanan korosi bahan tersebut. Demikian juga pada bahan Zn hila berada pada lingkungan oksigen, hidroksida, karbonat basa maka akan membentuklapisan tipis zinc oksida,zinc hidroksida dan zinc karbonat basa yang juga meningkatkan ketahanankorosi. Dengan menumbuki target AI dan Zn dengan ion Ar pada tabung sputtering, maka akan terbentuk lapisan tipis AlZn pada substrat Fe. Lapisan tipis ini dapat memisahkan antara cairan garam dengan permukaan substrat Fe, sehingga akan mengurangi interaksi antara permukaan lapisan tipis dengan cairan yang mengandung garam yang pada akhirnya memperkecil arus korosi. Bahan AI hila terkena air yang mengandung garam akan terkena korosi sumuran. Korosi ini disebabkankarena lapisan oksida bersifat katodik yang melapisi sewaktu bahan Al di udara bebas. Bahan Al tidak baik untuk lapisan anoda tumbal. Untuk itu perlu ditambahkan unsur lain misalnya Zn yang dapat mencegah terbentuknya selaput oksida yang merata, merekat kuat dan protektif sehingga proses galvanik akan terns berlangsung. Untuk membuat lapisan tipis AIZn pada bahan Fe dapat dilakukan menggunakan metode konvensional elektro plating, pencelupan panas, penyemprotan dan difusi. Selain itu dapat juga dilakukan dengan teknik modern yaitu ion beam assisted deposition maupun
sputtering. Pada penelitian ini digunakan metode sputtering yang mempunyai keunggulan yaitu lapisan tipis yang terdeposisi dapat merekat dengan kuat. Untuk mendeposisikan bahan AlZn pada substrat Fe, bahan target utama Ai dan target pin hole Zn diturnbuki dengan ion argon dari tempat substrat (anoda)[3].. Sebagianatom pada target akan tetpentalkeluar melalui transfer momentum. Atom yang terhambur ini akan bergerakke segalaarah, diantaranya ditarik menuju anoda. (substrat) daDmembentuk lapisan tipis merekat dengan kuat pacta .~ubstrat.Percikan atom target pacta .~ubstrat sebanding dengan tegangan elektroda daD waktu deposisi. Berbanding terbalik dengan jarak elektroda daD tekanan gas. Dengan melakukan variasi parameter sputteringyaitu tegangan elektroda, waktu deposisi daD prosentase Zn diharapkan akan didapat lapisan tipis A1Zn yang paling tahan terhadap cairan yang mengandung garam[4,5].
TATAKERJA Bahan Dalam penelitian ini menggunakan target AI bentuk silinder diameter 16 mm teball mm, sedangkan target Zn berbentuk empat persegi panjang dengan panjang 20 cm lebar I cm tebal 1 mill. Bahan untuk substratdigunakan bahan Fe dipotong dengan diameter 14mill, teball mill. Peralatan sistem sputtering bentuk silinder yang digunakan terdiri daTi : tabung sputtering dengan dua target utama Al daD target pin hole Zn, pompa vakum rotan, vakum meter, sumber tegangan tinggi DC 2.000 volt daD sumber gas argon.
PendeposisianLapisanTipis Pembuatan lapisan tipis A1Zn pada substrat Fe dimana target utama AI dan targetpin hole Zn diletakkan pada bagian silinder luar yang berfungsi juga sebagai katoda, dimana luasan target Al yang lebih besar daTi target pin hole Zn. Substrat Fe diletakkan pada tempat substrat berbentuk slinder yang berfungsi juga sebagai anoda yang terletak di dalam silinder luar. Tabung sputtering divakumkan sampai 4xl 0-2torr denganpompa vakum rotari, kemudian gas argon dialirkan ke dalam tabung sputtering melalui kran yang digunakan untuk mengatur tekanan gas. Tekanan gas naik menjadi 7x10-2torr. Somber tegangan tinggi DC dihidupkan, gas argon terionisasi, ion argon akan menumbuki target utama Al dan target pin hole Zn. Atom Al dan Zn akan terlepas menuju substrat Fe dengantenaga yang cukup besar, sehingga sebagian ion Al dan Zn sebelum daD sesudah sampai pada substrat membentuk senyawa A1Znpada permukaan substrat Fe. Untuk mendapatkan senyawa A1Zn paling baik, maka dilakukan variasi prosentase kandungan Zn (dengan melakukan variasi jumlah pin hole Zn), waktu deposisi, tegangan anoda.
11..
Prosiding Pertemuanllmiah llmu Pengetahuandan TeknologiBahan 2002 Serpong,22 -23 Oktober2002
ISSN1411-2213
Gambar 1. Diagram kotak sistem sputtering bentuk silinder
Pengukuran Laju Korosi Menggunakan
Potensiostat Laju korosi substrat Fe sebelum daD sesudah dideposisi dengan lapisan tipis AlZn diukur dengan potensiostatgalvanostat merk Tacusseltipe PGS 20 I T Pada alat ini sebagai elektroda pembantu dari platina daD sebagaielektroda pembanding adalah dari kalomel, sedangkansebagaielektroda kerja adalahFe yang belum dideposisi daD yang sudah dideposisi dengan lapisan tipis AIZn. Alat ini dilengkapi dengan tempat cuplikan diameter 15 mm daDbagian yang terkorosi diameternya 10rom. Waktu untukmengkorosi suatubahan,tegangan 'anoda daD katoda dapat diatur sesuai dengan yang dikehendaki. Untuk pengukuran arus korosi dengan menaikkan tegangan anoda dari tegangan negatip menuju Dol daD Dol menuju tegangan positip secara otomatis dengan rentang potensial selama waktu tertentu, dengan laju yang tidal berubah. Kemudian dibuat plot antara potensial dengan arus polarisasi. Untuk pengukuran potensiostat dinamik polarisasi anodik, setiap cuplikan yang acta di dalam set korosi pada media air yang mengandung NaCI dengan konsentrasiO,OIMdilakukanolehkomputer. Padasistem pengukuran ini diperlukan media air sebanyak 200 mI. Pada setiap pengukuran diamati pactaE .waI =-1.600 m V terhadap Ekorosi daD berakhir pada 1.600 m V Kecepatan polarisasi yang dipakai adalah 20 mV/dt
Pengamatan Unsur AlZn pada Fe Menggunakan APNC Untuk mengetahui atom AIZn sudah terdeposisidan seberapabanyak kandungan unsur AlZn pada .\'ubc\'tratFe, perlu dilakukan pengamatan unsur. Pengamatanunsur AlZn yang terdeposisipada .S'ubstrat Fe menggunakan Analisa Pengaktifan Neutron Cepat. Cara pengukuran ini sangatsensitifterhadap atom tidak mumian (atom aging yang terdeposisipada suatubahan yang diamati). Selain itu alai ill dapat mengamati unsur ringan sepertinitrogen. Dalam pengamatanill atom tak mumian yang terdeposisi pada seluruh permukaan 3'Ub.~'lrat (tidak hanya pada satutitik sepertipada ED AX) diiradiasi dengan neutron cepat 14Me V daTi generator neutron dengan waktu tertentu Selama mengalami radiasi neutron, substrat mengalami aktivitas 111\
peningkatan nomor massa inti atom, sehingga substrat bersifat radioaktif. Aktivitas ini berlangsung terns tetapi pada suatu saat terjadi aktivitas jenuh. Pada kondisi ini tidak akan terjadi peningkatan nomor massa inti atom meskipun radiasi berlangsung terns. Setelah berakhirnya proses aktivasi .,"ubstratyang telah bersifat radioaktif akan mengalami pelurnhan dengan memancarkan sinar gamma. Tenaga sinar gamma yang dipancarkan menunjukkan nomor massaunsur substrat. Sinar gamma ini dianalisis menggunakan spektrometergamma.
BASIL DAN PEMBAHASAN Hasillaju korosi Fe tanpa deposisi lapisan tipis AIZn laju korosinya lebih tinggi, sedangkan Fe yang dideposisi dengan lapisan tipis AIZn menunjukan penurunan laju korosi. Gambar 2 sampai dengan Gambar 5 menyajikan grafIk hubungan antara tegangan elektroda, waktu deposisi, prosentase kandungan Zn daD sudut substrat terhadap laju korosi.
1c8
~
.§.
'g :¥ ~ ~
~$ t4 1:2
().,
~
7"-.:1 ~"
~
f;OO
t9Qang~ !3lektroMc(vQ~) Gombar 2. Grafik hubunganantara teganganelektroda dengan!aju korosi
Gambar 2 menyajikan grafik hubungan antara tegangan elektroda dengan laju korosi. Tegangan elektroda berfungsi untuk mengionisasi gas argon dan mempercepation argon menuju ke target AI dan Zn. Ion argon mempunyai massayang bernt, sehingga tumbukan pada target mampu melepaskan atom Al dan Zn. Atom AI dan ZI1 yang lepas akan menuju ke .~ub.S'tratFe membentuklapisan tipis AlZn merata di permukaan Fe. ,-,,>ubstrat tanpa lapisan tipis AIZn laju korosinya adalah 1,72 mpy dan setelah dideposisi dengan lapisan
DeposisiLapisan TzpisAlZn untuk Pelindung Fe Bentuk AS TerhadapKorosi Cairan Garam (Yunanto)
tipis laju korosinya turun. Semakin tinggi tegangan elektrodaada kecenderunganlaju korosi menurnn sedikit menjadi 1,69 mpy, hal ini kerena tenaga ion argon menumbuki target Al dan Zn belum begitu kuat, sehingga percikan atom A1Zn hanya sedikit. Dengan demikian lapisan tipis yang terdeposisipadapermukaan sub,\'trat Fe belum begitu tebal, sehingga reaksi cairan pengkorosi (air yang mengandung NaCl) masih cukup besar. Tetapi pada tegangan 1250 volt laju korosi turnn dengan drastis menjadi 1,07 mpy. hill ini disebabkan karena ion argon untuk menumbuki target AlZn cukup besar,sehinggapercikan yang dihasilkan cukup banyak. Lapisan tipis AlZn yang dihasilkan juga meningkat ketebalannya..Dengan demikian interaksi antara cairan denganpermukaan lapisan tipis AlZn tidak begtubesar. Padategangan 1.500 volt tenagaion argon semakinbesar, sehingga percikan yang dihasilkan yang menumbuk substratjuga semakinbesar.Dengan demikian sebagian atom AlZn sebagiantidak merekat pada ,\'Ub,\'trat Fe dan tidak membentuk lapisan tipis AlZn yang cukup tebal.
~
!.
.~
i
:I
:i"
Gombar4. Grafik hubungan.antaraprosentaseZn dengan laju korosi
dengan laju korosi. Cara menentukan prosentase Zn pada senyawa A1Zn dengan mengatur perbandingan luas target Zn terhadap luasan target AI. Jadi pada penelitian ini luasanZn dibuat lebih kecil dari luasanAI. Untuk prosentase Zn hanya 5 % laju korosi hanya berkurang sedikit menjadi 1,65 mpy, hal ini disebabkan pembentukan antar logam aluminium besi yang lebih tidak mulia yang akan mengurangi efek sel korosi lokal belum sempuma. Tetapi pada prosentase kandungan Zn 10% laju korosinya turun drastis menjadi 0,42 mpy, karena pembentukan antar logam aluminium/besi yang tidak mulia sudah sempurna. Laju korosi untuk prosentasekandungan Zn di atas 10 % naik lagi, hal ini disebabkankarena dengannaiknya kandungan Zn maka lapisan tipis zinc oksida lebih lemah dari lapisan tipis aluminium oksida[2]. \$51";
Gambar3. Grafik hubunganantarawaktu deposisidengan laju korosi
PadaGambar 3 disajikan grafik hubungan antara waktu deposisi dengan laju korosi. Laju korosi cendemng menumn dengan bertambahnya waktu, hal ini disebabkan karena dengan bertambahnya waktu deposisi, dengan menggunakan tegangan elektroda, prosentase Zn, tekanan gas yang sarna maka lapisan tipis yang terbentuk semakin tebal. Dengan bertambahnya teballapisan tipis AlZn, maka interaksi cairan pengkorosi dengan lapisan tipis Al Zn semakin kecil. Selain itu penggrerogotan lapisan tipis AIZn memerlukan waktu yang lebih lama. Dengan demikian ams korosinya tumn menjadi 1,22 mpy walaupun naik lagi menjadi 1,38 setelahwaktu deposisi90 meDii.Hal ill disebabkansemakinpanjang waktu deposisi, maka akan melewati kondisi jenuh. Pertumbuhan lapisan tipis akan disertai dengan pembentukan kekosongandaDpori-pori mikro. Adanya kekosongan daD pori-pori mikro akan menyebabkan penumnan kerapatan daD keteraturan atom-atom dalam lapisan tipis yang terbentuk. Dengan demikian elektron akan lebih mudah mengalir dari cairan menuju substrat Fe[6]. Pacta Gambar 4 menyajikan gambar grafik hubungan antara prosentase Zn pada senyawa AIZn
~
~V.~~C!:J$"'" j+~1 1+~1
I;
---'I 1~
1.55
S
/~
""i. 145 P:
j :J :i"
.;
~---'
IJS
!
1::1$t
0
I!!
~
~I mo
m
$Ud~ {d~2ja1} Gambar 5. Grafik hubungan antara posisi sudut substrat dengan laju korosi
Tujuan penelitian ini adalah untuk memberi lapisan tipis AIZn pada su."btrat bentuk as, sehingga dalam pembuatan lapisan tipis AIZn menggunakan elektroda berbentuk silinder dimana katodanya daTi bahan Al yang ditutupi (sebagian kecil) dengan bahan Zn. Dengandemikian percikan atom AlZn basil tumbukan dengan ion argon yang terdeposisi pada substrat Fe tidak dapat homogen. Ketidak homogenan ini (Gambar 5) kemungkinan disebabkandari jarak elektroda (antara target dan substrat)tidak persis semua,sehingga hasil percikannyajuga tidak sarna. Selain itu terjadinya senyawaantara ion AI daD Zn sebelum sampai ."ubstrat
117
ProsidingPertemuanllmiah l/mu Pengetahuandan TeknologiBahan 2002 Serpong, 22 -23 Oktober 2002
ISSN1411-2213
C a c a h
C a a
h
Tenaga(keV) Gambar 6. Spektrum puncak unsur Zn dan AI yang menghasilkan laju korosi terkecil menggunakan APNC.
juga tidak persis sarna.Oleh karena itu laju korosi antara ke empat substrattidak sarna.PeIbedaanterbesarantara sudut 900dengan sudut 1800adalah 0,3 mpy, sehingga homogenitas basil deposisi lapisan tipis AlZn adalah 1-0,3/1,72=0,87. Untuk mengetahui unsur yang terdeposisi pada subc..tratFe maka lapisan tipis yang yang terdeposisi pacta substrat Fe diamati dengan Analisa Pengatipan Neutron Cepat. Pengarnatandilakukan pactac..ubstrat Fe yang telah dideposisi dengan lapisan tipis AlZn yang menghasilkanlaju korosi teIkecil dan teIbesar(ketahanan korosi yang paling baik dan paling jelek). Pacta Gambar6. disajikan spektromtenagadaTikandungan AI dan Zn pada substrat Fe yang menghasilkan laju korosi paling kecil, sedangkan Gambar 7 spektrum tenagadari kandungan AlZn yang menghasilkan laju korosi paling besar (tidak baik). Prosentaselapisan tipis AlZn yang terdeposisi pacta substrat Fe dapat diketahui dengan rnembuat ,..ubstratstandardari bahan murni daTi AI dan Zn. Kedua bahan ini dicampur dan diarnati cacahnyauntuk masingmasing unsur.Dengan membandingkancacahdari bahan standar dan lapisan tipis AIZn rnaka dapat diketahui prosentase kandungan AIZn. Penentuanprosentase unsur Zn pactaGambar 4 dilakukan dengan menghitung perbandingan luasan targetutarna AI dan targetpin hole Zn. Dengan demikian pactakenyataannya prosentase unsur Al dan Zn yang terdeposisi pacta substrat Fe, selain ditentukan oleh luasan target utama dan target pin hole juga ditentukan oleh perolehan sputter (sputter yield). Perolehan basil sputter ini tergantung daTidaya ikat bahan target yang digunakan. Untuk unsur Al basil perolehan ..,putterdaTi tumbukan ion argon tenaga 100 eVadalah 0,11, sedangkanbasil perolehan ,..putterZn adalah 0,09. Jadi dengan tenaga penumbuk dan waktu penurnbukan yang sarna perolehan basil sputter Zn lebih kecil dari unsur AI. Selainditentukan oleh luasantargetdan ikatan bahan masih tergantungdari letak ,..ub~.tratterhadap letak target utarna dan target pin hole. Pactaspektrum Gambar 6 rnenunjukkan puncak
118
Tenaga.(keV) Gambar 7. Spektrum unsur menghasilkan laju korosi terbesar.
Zn
clan Al
yang
tenaga daTi unsur Zn pactatenaga 487,94 Ke V dengan cacah 17dan Al padatenaga 846,28 KeV dengancacah 337. Dengan demikian dapat ditentukan kandungan Zn 3,3 % dan AI 66 %. Sedangkanspektnun pactaGambar 7 menunjukkanpuncakZn pactatenaga518,51 Ke V dengan cacah46 dan Al pada tenaga 873,06 Ke V dengan cacah 243. Prosentase kandungan pacta substrat yang menghasilkan laju korosi yang terkecil adalah Zn 8,3 % dan AI4 7 %. Kedua spektrum yang ditampilkan unsur Fe tidak tampak, hal ini kemungkinan lapisan tipis yang terbentuk tebal sehingga menutupi permukaan _\'UbstratFe.
KESIMPULAN Dari basil percobaan dan pengamatanyang telah dilakukan dapat diambil beberapa kesimpulan bahwa denganmenggunakantarget AlZn bentuk silinder, maka dapat dilakukan deposisi lapisan tipis AIZn pada substrat Fe dengan bentuk as. Untuk tujuan peningkatan ketahanan korosi bahan Fe yang sering digunakan pada peralatan yang bersinggungan dengan air taut. Dalam hal ini parameter yang penting pada proses deposisi lapisan tipis adalah waktu deposisi, tegangan elektroda dan prosentase Zn. Dengan menggunakan sistem sputtering bentuk silinder diperoleh penurunan laju korosi terbesar pada kondisi parameterwaktu deposisi 30 menit, tekanan 8x10-2torr, teganganelektroda 1.000 volt dan kandungan Zn 8,3 %. Penurunanlaju korosi daTi 1,72 mpy menjadi 0,42 mpy.
UCAPANTERIMAKASm Pacta kesempatan ini Penulis menyampaikan ucapan terima kasih kepada Sdr.Agus dan Sdr. Sumaryadi yang telah membantu membuat lapisan tipis AIZn. Demikian juga pactaSdr. Sunardi ST yang telah mengamati analisis unsur dengan APNC, serta Sdri. Ratmi Herlani Amd yang telah mengukur laju korosi dengan Potensiostat.
DeposisiLapisan TipisAlZn un/uk Pelindung Fe Bentuk AS TerhadapKorosi Cairan Garam (IUnanto)
DAFTARPUSTAKA [1]. CHAMBERLAINJ, TRE11ffiWEY KR, Koro.~i, PT GramediaPustakaUtama,Jakarta,(1991) [2]. BING WANG,ZU WU LA!, CONGBING nANG, Study of the corrosion protectionproperties of AIZn films synthesizedby IBAD, Journal of Materials Proce.~.~ing Technology. (1998). [3]. J MORT, F JONSON, Plasma Deposited Thin Film,CRCPressInc.Florida,(1985). [4]. M. SUNTHANKAR, SD JOSHI,Zero WasteDry Plating, Societyof VacuumCoaters,(1997). [5]. KIYOTAKA W, SHIGERH, HandbookSputter Deposition Tecnology,NoyesPublication, New Yersey, (1991). [6]. LAWRENCE,VAN VLACK, !/mu danTeknologi Bahan,PeneIbitErlangga,Jakarta,(1991)
TANYA JAWAB Mujamilah, P3ffi -BATAN Pertanyaan
1. Bagaimanametodeini diterapkanuntuk pelapisan padasistemkompositdenganbentukkurva Jawaban 1. Metode ini dapat digunakan pada komposit dengan bentuk kurva yaitu dengan membentuk target berbentuk kurva juga dengan ukuran yang lebih besar.Target berbentuk kurva ditumbuki dengan ion argondalam ruang vakum. Atom target memercik ke substrat bentuk kurva dengan lapisan tipis yang homogendan merekat dengankuat karena sebagian atom target dapatmenyisip pactapennukaansubstrat.
Toifur,UniversitasAhmadDahlan -Yogyakarta Pertanyaan
1. Mengapa Peningkatan daya RF menurunkan transmitan Jawaban 1. Peningkatan daya RF menyebabkan tenaga ion argon meningkat sehingga atom silikon semakin banyak, dengan demikian ketebalanlapisantipis SiN meningkat clan pada akhirnya transmitannya menumn.
Ke Daftar Isi 119
