PENGARUH KETEBALAN LAPISAN TERHADAP KARAKTERISTIK THIN FILM ZnO PADA SUBSTRAT KACA Dwi Arista1, Nandang Mufti2, Abdulloh Fuad2 Jurusan Fisika FMIPA Universitas Negeri Malang Email :
[email protected]
Abstrak: Pelapisan kaca dapat menggunakan bahan semikonduktor berbasis fotokatalis menggunakan ZnO karena mempunyai keunggulan dalam mendekomposisi senyawa organik dan bakteri berbahaya yang sering mengkontaminasi lingkungan sehingga Jika pada kaca terdapat kotoran-kotoran yang mengandung senyawa organik maka pelapisan fotokatalitik ZnO pada kaca dapat diaplikasikan sebagai pembersihan mandiri yang dikenal sebagai self cleaning glass yang bergantung pada tebal lapisan, dimana ketebalan lapisan dapat dikontrol dengan mengatur kecepatan putaran dari spin coating. Pada penelitian ini dilakukan variasi kecepatan putaran spin coating yaitu 2000 rpm, 3000 rpm, dan 4000 rpm untuk mengontrol ketebalan. Bahan dasar yang digunakan adalah Zn(CH3COOH)2.2H2O (PA 99,5%), Ethylen glycol, Dietanolamin (PA 99%), Isoprepenil Alkohol, Glyserol, dan Aseton. Metode sintesis yang digunakan adalah sol gel dan spin coating. Film yang dihasilkan dikarakterisasi dengan menggunakan SEM, XRD, dan UV-Spektofotometer. Struktur kristal dianalisis dengan software Highscore dan GSAS, ukuran kristal dihitung melalui persamaan Scherrer, sudut kontat dengan software imageJ. Hasil penelitian menunjukkan bahwa thin film ZnO telah berhasil disintesis dengan ukuran kristal berkisar antara 21 nm hingga 26 nm, dimana semakin tebal lapisan maka ukuran kristal juga semakin besar. Nilai absorbsi semakin besar dengan bertambahnya ketebalan lapisan dengan nilai bandgap ±3.2 eV. Hasil uji sifat hidrofobik dan hidrofilik menunjukkan semua sampel thin film ZnO dengan ketebalan ± 1.050μm, ± 0.450μm, ± 0.250μm dapat diaplikasikan sebagai self cleaning glass, dimana hasil paling baik diperoleh dengan ketebalan thin film ± 1.050μm. Kata Kunci: Fotokatalitik, Thin Film, Spin Coating, Hidrofobik, Hidrofilik
PENDAHULUAN Penggunaan kaca pada berbagai properti semakin meningkat, material transparan ini berfungsi untuk memperindah properti dan sebagai alternatif penghematan energi karena dapat membantu pencahayaan bangunan pada siang hari. Salah satu kekurangan dari kaca adalah mudah terkontaminasi oleh kotoran yang lama kelamaan akan mengurangi pencahayaan ruangan bahkan dapat merusak permukaan material. Oleh karena itu perlu alternatif lain untuk menangani masalah tersebut. Berbagai cara dilakukan untuk memodifikasi materialmaterial tersebut untuk mempermudah pekerjaan manusia, salah satunya dengan teknologi rekayasa permukaan (Pravita, 2013). Teknologi rekayasa permukaan salah satunya dengan pelapisan (coating). Pelapisan kaca dapat menggunakan bahan semikonduktor berbasis fotokatalis. Fotokatalis semikonduktor sudah banyak menarik perhatian karena dapat . menghasilkan radikal bebas (OH ) yang
dapat memineralisasi zat-zat yang berbahaya menjadi zat-zat yang lebih ramah lingkungan ( Hutabarat, 2012). ZnO merupakan salah satu semikonduktor yang bersifat fotokatalitik. ZnO sudah diaplikasikan sebagai bahan utama untuk dioda pemancar cahaya, tabung sinar katoda, film tipis electroluminescence, dan sensor gas (Berestok, 2013). Berdasarkan G. Kenanakis (2011), ZnO memberikan efesiensi yang lebih baik dibandingkan dengan TiO2 sebagai fotodegradasi dalam larutan air. Selain itu, gabungan efektivitas fotokatalitik sifat hidrofobik, dan superhidrofilik membuat ZnO menjadi kandidat yang bagus untuk aplikasi self cleaning glass. ZnO mempunyai beberapa keunggulan seperti stabil terhadap cahaya (tidak terdegradasi saat melakukan penyerapan sinar), tidak beracun, ramah lingkungan, fotosensitif, biayanya murah, dan mempunyai kemampuan dalam mendekomposisi senyawa organik dan bakteri berbahaya yang sering 1
mengkontaminasi lingkungan (Kasuma, 2012). Lapisan tipis ZnO dapat dibuat dengan berbagai macam metode, seperti vapor deposition, pulsed laser deposition, molecular beam epitaxy, metal organic chemical vapor deposition, sputtering, electron beam evaporation, spray pyrolysis, dan spin coating (Lupan, 2009). Sol-gel spin coating adalah metode untuk membuat lapisan dari bahan polimer photoresist yang dideposisikan pada permukaan dan material lain yang berbentuk datar. Setelah larutan (sol-gel) diteteskan di atas substrat, kecepatan putar diatur oleh gaya sentrifugal untuk menghasilkan lapisan tipis yang homogen. Metode sol-gel spin coating ini menggabungkan metode fisika dan kimia biasa. Metode ini sangat mudah dan efektif untuk membuat lapisan tipis dengan hanya mengatur parameter waktu dan kecepatan putar serta viskositas larutan ( Ahzan et al, 2011). Metode sol-gel spin coating memiliki beberapa keuntungan, antara lain biayanya murah, temperatur aniling rendah, komposisi dan struktur mudah dikontrol, komposisinya yang homogen, tidak menggunakan ruang dengan tingkat kevakuman yang tinggi, ketebalan lapisan bisa dikontrol dan mikrostrukturnya yang baik, sehingga metode ini banyak digunakan beberapa tahun belakangan ini (Foo, 2013). Metode ini sangat mudah dan efektif untuk membuat lapisan tipis dengan hanya mengatur parameter waktu dan kecepatan putar serta viskositas larutan ( Ahzan et al, 2011). Jenis lapisan ada yang bersifat hidrofob dan hidrofilik yang memiliki keuntungan lebih bagi manusia dikarenakan sifat self cleaning pada lapisan tersebut (Hamidah dkk, 2012). Hidrophilic, yaitu ketika air mengenai kaca, maka partikel tersebut menyebarkan air diseluruh kaca, sehingga otomatis membersihkan kaca tersebut (Kenanakis, 2011), sedangkan hidrofobik adalah suatu keadaan dimana permukaan tidak dapat menahan (memegang) air dan memiliki ukuran sudut kontak yang besar ketika tidak mendapat
penyinaran . Sifat fisik permukaan akan mempengaruhi sifat hidrofobik material, bahan yang dilapisi oleh material berukuran nano dapat bersifat hidrofobik bahkan superhidrofobik, hal ini karena material berukuran nano mempunyai luas permukaan yang lebih besar dibandingkan dengan material berukuran bulk ( Pravita, 2013). Ketika kaca terkena air, permukaan kaca akan semakin cemerlang. Kaca akan terlihat bersih lebih lama serta biaya perawatan lebih murah. Self cleaning glass membantu mengurangi penggunaan produk pembersih kaca yang tidak ramah lingkungan sehingga polusi terhadap lingkungan dapat dikurangi ( Setyawan dkk, 2010). Jika pada kaca terdapat kotorankotoran yang mengandung senyawa organik maka pelapisan fotokatalitik ZnO dapat diaplikasikan sebagai pembersihan mandiri yang dikenal sebagai self cleaning glass dengan mendapatkan ketebalan lapisan ZnO yang sesuai. Ketebalan lapisan ZnO tersebut dapat dikontrol dengan mengatur kecepatan putaran dari spin coating thin film yang akan mempengaruhi ukuran kristal, struktur kristal, nilai bandgap dan keefektifan self cleaning glass yang dilihat dari sifat hidrofobik dan hidrofilik. METODE PENELITIAN Penelitian ini termasuk jenis penelitian eksperimen murni, karena adanya perlakuan dan kontrol. Penelitan ini diawali dengan persiapan sampel dengan Kaca preparat yang dibersihkan sebelum dilapisi. Kaca dicuci dengan sabun, dalam alkohol 96% selama 15 menit dan dalam aceton selama 15 menit. Setelah itu, kaca dioven pada suhu 105⁰C selama 1 jam. Sebelum digunakan kaca didinginkan terlebih dahulu pada suhu ruang. Setelah itu, pembuatan larutan dengan metode sol-gel dengan Larutan sol ZnO disiapkan dengan menggunakan bahan dasar zinc asetat dihydrat [Zn(CH3COOH)2.2H2O] dengan. Untuk menyiapkan 5,488 g zinc asetat dihydrat dicampur kedalam 3 ml ethylene glycol. Kemudian dipanaskan pada suhu 150oC selama 30 menit. Setelah itu, ditambahkan 20 ml isopropil alkohol (IPA) 2
dengan disitirer pada suhu ruang selama 30 menit. Ketika larutan menjadi keputihputihan ditambahakan 0.5 ml glycerol. Kemudian ditambahkan dietanolamin (DEA) sebanyak 1.5 ml sebagai penyetabil, kemudian distirer selama 60 menit sehingga didapatkan larutan sol yang homogen. Selanjutnya dilakukan sintesis pelapisan dengan metode spin coating agar dapat diperoleh endapan lapisan tipis di atas substrat yang selanjutnya akan menjadi thin film kaca yang telah disiapkan diletakkan diatas alat Spin Coating . Selanjutnya larutan ZnO yang sudah dibuat sebelumnya di kocok terlebih dahulu dan diteteskan diatas permukaan kaca hingga seluruh permukaan tertutupi. Spin Coating di kondisikan pada kecepatan putar yang diinginkan yaitu 2000 rpm, 3000 rpm, dan 4000 rpm selama 30 detik. Lapisan yang sudah dibuat selanjutnya dipanaskan pada temperatur 300oC selama 10 menit pemanasan kemudian proses anneling pada temperature 550oC selama 1 jam. Setelah itu, bahan dikarakterisasi dengan menggunakan X-ray Diffractometer , SEM, dan UV-Spektofotometer.
Untuk melihat sifat hidrofobik dan hidrofiliknya yaitu dengan meneteskan air pada permukaan yang sudah dilapisi. Untuk hidrofilik, sampel disinari matahari selama 30 menit kemudian ditetesi air kemudian menghitung sudut kontaknya dengan persamaan 𝜃 2ℎ 𝑡𝑎𝑛 = (1) 2 𝑊 HASIL DAN PEMBAHASAN Mikrostruktur Thin Film ZnO Mikrostruktur thin film ZnO dianalisis dengan menggunakan SEM untuk mengetahui ketebalan dan morfologi. Adapun Tabel 1 menunjukkan ketebalan dari masing-masing thin film ZnO dari kecepatan puataran spin coating yang berbeda. Tabel 1 Ketebalan Lapisan Thin Film ZnO
Variasi Kecepatan Putaran (rpm) 2000 3000 4000
Ketebalan lapisan (μm) ± 1.050 ± 0.450 ± 0.250
Dari Tabel 1, terlihat bahwa kecepatan putaran spin coating yang kecil menghasilkan ketebalan lapisan yang besar sedangkan kecepatan putaran yang besar menghasilkan ketebalan lapisan yang kecil. Berkurangnya ketebalan lapisan disebabkan karena pada kecepatan putaran spin coating yang besar mengakibatkan adanya gaya sentrifugal dan turbulensi cairan yang sesuai sehingga lapisan lebih merata pada permukaan substrat kaca. Adapun pada Gambar 2 menunjukkan morfologi dari lapisan thin film ZnO dengan perbesaran 50.000x
Gambar 1. Skema Pembuatan Thin Film ZnO
Gambar 2. Morfologi Thin Film ZnO dengan kecepatan putaran (a) 2000 rpm (b) 3000 rpm (c) 4000 rpm
3
Pola Difraksi Sinar-X Thin Film ZnO Pola difraksi sampel thin film ZnO hasil sintesis dengan metode sol-gel spin coating pada ketebalan ±0.250 μm, ±0.450 μm, dan ±1.050 μm ditunjukkan pada Gambar 3
Gambar 3 Pola Difraksi Thin Film ZnO terhadap ketebalan dengan Ketebalan dari Variasi Kecepatan Putaran Spin Coating
Dari Gambar 3. juga terlihat bahwa semakin tebal suatu lapisan maka thin film mengarah pada bidang (002), sedangkan semakin tipis suatu lapisan maka orientasi kristal semakin seragam. Hal ini dikarenakan semakin tipis suatu lapisan menyebabkan permukaan semakin merata dan semakin sedikit bidang yang dimiliki bahan tersebut sehingga puncaknya juga semakin pendek dan seragam. Struktur Kristal Thin Film ZnO Struktur kristal thin film ZnO dianalisis dengan menggunakan software GSAS ditunjukkan pada tabel 2. Tabel 2. Hasil Analisis Struktur Kristal Thin Film ZnO Parameter Model ±1.050 ±0.450 ±0.250 ZnO μm μm μm a=b(Å) c(Å)
3.250 5.250
3.249 5.206
3.249 5.203
3.248 5.203
Α=β(o)
90
90
90
90
120
120
120
120
a/c
0.6
0.62
0.62
0.62
c/a
1.6
1.6
1.6
1.6
o
γ( )
Pada Tabel 2, terlihat bahwa hampir tidak ada perbedaan antara parameter kisi dengan variasi ketebalan yang berbeda,
hanya ada sedikit pergeseran. Hal ini dikarenakan bahan yang digunakan sama yaitu ZnO, akan tetapi untuk sedikit pergeseran kisi dimungkinkan karena semakin tipis suatu lapisan maka parameter kisi lebih kearah substrat kaca yang digunakan sehingga nilainya sedikit lebih kecil. Ukuran Kristal Thin Film ZnO Ukuran kristal dianalisa dengan menggunakan sofware Microcal Origin Pro 8 untuk mengetahui nilai FWHM dan nilai 2θ dari pantulan sinar-X kemudian dihitung dengan menggunakan persamaan ScherrerDebye. Tabel 3 menunjukan ukuran kristal kristal pada masing-masing variasi kecepatan putaran pada thin film ZnO . Tabel 3 Ukuran Kristal Thin Film ZnO pada Variasi Kecapatan Putaran Spin Coating Ketebalan Bidang hkl Ukuran Lapisan ( μm) Kristal (nm) ±1.050 100 32.15 002 24.30 101 22.89 Rata-Rata ±0.450
Rata-Rata ±0.250
Rata-Rata
100 002 101
26.45 26.07 27.99 22.73
100 002 101
25.59 22.32 21.62 19.61 21.18
Hasil ini sesuai dengan prediksi awal terkait dengan lebarnya puncak yang terdapat pada pola difraksi sinar-X. Semakin lebar puncak, nilai FWHM semakin besar dan ukuran kristal semakin kecil. Sehingga dari penjelasan tersebut dapat disimpulkan bahwa semakin tipis suatu lapisan maka ukuran kristal kristal semakin kecil. Hasil tersebut sesuai dengan penelitian yang dilakukan oleh Gayen (2011) yang menyataksn meningkatnya ukuran kristal seiring dengan bertambahnya ketebalan suatu lapisan.
4
Sifat Optik Thin Film ZnO Berdasarkan hasil uji Uv-Vis dapat mengetahui nilai transmitansi dan absorbsi thin film ZnO pada berbagai panjang gelombang dengan variasi kecepatan putaran pada Gambar 4.
Adapun gambar 5 menunjukan grafik grafik hubungan ( h υ ) sebagai absis dan (α hυ )n dengan variasi kecepatan putaran dan jumlah lapisan. Adapun gambar 5 menunjukkan nilai bandgap thin film ZnO dengan variasi kecepatan putaran.
Gambar Gambar 5 Grafik Hubungan ((hv) sebagai absis dan (α hυ )n Gambar 4 Nilai Transmitansi dan Absorbsi Thin Film ZnO dengan Ketebalan Lapisan
Berdasarkan Gambar 4 Secara umum nilai absorbansi untuk semua sampel menurun untuk panjang gelombang yang lebih besar, yang merupakan karkteristik penyerapan pada semikonduktor ZnO. semakin tebal suatu lapisan maka nilai absorbsi semakin besar. Hal ini dikarenakan semakin tidak transparan sampel maka semakin banyak lapisan yang terbentuk, sehingga semakin banyak molekul ZnO yang terlibat dalam proses penyerapan cahaya tampak. Nilai Bandgap Thin Film ZnO Perhitungan celah pita optik dimulai dari penentuan nilai transmitansi maksimum dan minimum, tebal dan koefisien serapan lapisan tipis dan diakhiri perhitungan dengan menerapkan metode Tauc dengan cara melakukan ekstrapolasi dari grafik hubungan ( h υ ) sebagai absis dan (α hυ )n sebagai ordinat hingga memotong sumbu energi sehingga diperoleh nilai celah pita optik. Pengukuran transmitansi dilakukan pada panjang gelombang 330 nm -800 nm.
Adapun ketebalan lapisan tidak berpengaruh pada nilai bandgap . Hal ini dikarenakan nilai bandgap dipengaruhi oleh material, jika material yang digunakan sama maka nilai bandgap yang dihasilkan juga akan sama. Pada semua variasi ketebalan menunjukkan hasil yang sama yaitu 3.2 eV. Hasil ini sesuai dengan rentang nilai bandgap ZnO yaitu 3.2-3.5 eV (Kasuma, 2012). Nilai bandgap yang kecil akan menyebabkan elektron mudah tereksitasi dari pita valensi kepita konduksi. Nilai Hidrofobik dan Hidrofilik Thin Film ZnO Sudut kontak thin film ZnO dengan ketebalan yang berbeda (±1.050 μm, ±0.450 μm, ±0.250 μm) dari variasi kecepatan putaran spin coating (2000 rpm, 3000 rpm, dan 4000 rpm) diambil gambarnya dengan menggunakan kamera kemudian diukur dengan menggunakan software imageJ. Adapun hasil dari gambar sudut kontak ditunjukan pada Gambar 6 Berdasarkan Kenanakis (2011) untuk aplikasi self cleaning glass permukaan material harus bersifat hidrofobik dan 5
superhidrofilik. Pada tabel 4.6 terlihat bahwa sudut kontak yang dihasilkan 90 o ketika dalam ruangan dan 10 setelah terkena sinar matahari selama 30 menit. Sifat hidrofobik menjadikan air menggilinding kebawah sehingga tidak menempel pada kaca dengan membawa kotoran sedangkan dengan sifat hidrofilik, air menyebar kepermukaan kaca dengan membersihkan kotoran kemudian dengan gaya gravitasi maka air yang menyebar itu akan jatuh kebawah sehingga kaca akan tetap bersih cemerlang walau terkena air.
±0.250 μm memiliki sudut kontak paling besar yaitu 96.32o ketika dalam ruangan dan memiliki sudut paling kecil yaitu 20.61o setelah disinari dengan cahaya matahari selama 30 menit. Sebaliknya, pada thin film ZnO dengan ketebalan ±1.050 μm memiliki sudut kontak paling besar yaitu 99.99 o ketika dalam ruangan dan memiliki sudut paling kecil yaitu 6.03 o setelah disinari dengan cahaya matahari selama 30 menit. Thin film ZnO dengan semua variasi masih menunjukan sifat hidrofobik yang baik karena memiliki sudut kontak diatas 90o dan juga menunjukkan sifat superhidrofilik yang bagus karena memiliki sudut kontak kurang dari 10o. Tabel 4 Sudut Kontak Thin Film ZnO dengan Variasi Ketebalan Lapisan Ketebalan (μm)
Tanpa Lapis ±1.050 ± 0.450 ± 0.250
Gambar 6 Sudut Kontak Thin Film Zno Dengan Variasi Ketebalan (a) tanpa lapis, (b) 1.050 μm (c) 0.450 μm, (d) 0.250 μm
Tabel 4 menunjukkan nilai sudut kontak Thin Film ZnO dengan variasi ketebalan dari kecepatan putaran spin coating. terlihat bahwa thin film ZnO dengan ketebalan KESIMPULAN Berdasarkan analisis data dan pembahasan dapat disimpulkan sebagai berikut. 1. Ketebalan lapisan tidak mempengaruhi struktur kristal thin film ZnO, hanya ada sedikit pergeseran. Hal ini dikarenakan bahan yang digunakan sama yaitu ZnO, akan tetapi untuk sedikit pergeseran kisi dimungkinkan karena semakin tipis suatu lapisan maka parameter kisi lebih kearah
Didalam Ruangan Sudut kontak ( o) 16.81 91.03 97.84 99.74
Cahaya Matahari Sudut kontak (o) 17.83 6.03 8.54 10.44
Besarnya sudut kontak meningkat dengan seiringnya ketebalan lapisan. Hal ini disebabkan dengan semakin tebal lapisan, maka jumlah partikel ZnO yang terdeposisi juga bertambah. Peran ZnO adalah menahan cairan pada permukaan sehingga memperkecil area kontak material dengan cairan sehingga jumlah ZnO yang terdeposisi mempengaruhi sifat hidrofobik material.
2.
6
substrat kaca yang digunakan sehingga nilainya sedikit lebih kecil. Semakin tebal suatu lapisan menyebabkan ukuran kristal lapisan thin film ZnO semakin besar, sebaliknya semakin tipis suatu lapisan menyebabkan ukuran kristal lapisan ZnO semakin kecil. Menurunya ukuran kristal disebabkan karena puncak difraksi memiliki pelebaran atau FWHM yang semakin besar dan bidang pantul sinar-X yang terbatas.
3.
4.
5.
6.
Semakin tebal suatu lapisan menyebabkan nilai absorbsi UV thin film ZnO semakin besar. Hal ini dikarenakan semakin tidak transparan sampel maka semakin banyak lapisan yang terbentuk, sehingga semakin banyak molekul ZnO yang terlibat dalam proses penyerapan cahaya tampak. Sehingga, nilai absorbansi pada panjang gelombang yang sama akan lebih besar pada sampel yang lebih tebal. Ketebalan lapisan tidak berpengaruh pada nilai bandgap. Hal ini dikarenakan nilai bandgap hanya dipengaruhi oleh material, jika material yang digunakan sama maka nilai bandgap yang dihasilkan juga akan sama. Pada semua variasi ketebalan menunjukkan hasil yang sama yaitu 3.2 eV, hasil ini sesuai dengan rentang nilai bandgap ZnO yaitu 3.2-3.5 eV. Semakin tebal suatu lapisan menyebabkan sifat hidrofobik thin film ZnO semakin besar. Hal ini disebabkan dengan semakin tebal lapisan, maka jumlah partikel ZnO yang terdeposisi juga bertambah. Peran ZnO adalah menahan cairan pada permukaan sehingga memperkecil area kontak material dengan cairan sehingga jumlah ZnO yang terdeposisi mempengaruhi sifat hidrofobik material. Penyinaran cahaya matahari menyebabkan sifat hidrofilik thin film
ZnO semakin kecil. Hal ini dikarenakan, sinar matahari bisa menghasilkan pasangan elektron dan hole pada permukaan ZnO, reaksi oksidasi pada permukaan semikonduktor dapat berlangsung melalui donor elektron dari subtrat ke h+. Jika potensial oksidasi yang dimiliki hole pada pita valensi ini cukup besar untuk mengoksidasi air pada permukaan maka akan dihasilkan gugus hidroksil maka hidrofilik dapat ditingkatkan dan sudut kontak yang menurun. SARAN 1. Perlu adanya kecermatan dalam proses sintesis agar diperoleh hasil yang baik, seperti menjaga kebersihan dan kesterilan alat dengan menggunakan alkohol sebelum digunakan. 2. Sebaiknya dalam pembersihan substrat menggunakan larutan asam supaya lebih bersih. 3. Perlu adanya penelitian untuk mengetahui perubahan dari hidrofobik kehidrofilik yang dilakukan dengan menyinari kaca dengan sinar UV dengan panjang gelombang yang berbeda-beda sekitar 30 menit sehingga dapat diketahui gradasi dari perubahan hidrofobik kehidrofilik
7
Advance in Chemical Engineering and Science, (online),1:9-14 (http://www.scirp.org/journal/aces), diakses tanggal 4 November 2014. Creighton, J.R and Ho, P. 2001. Introduction to Chemical Vapor Deposition (CVD), (online), (http://www.asminternational.org), diakses tanggal 14 Desember 2014 Foo, K.L., Kashif, M., Hasyim, U., and M.E. Ali. 2013. Fabrication and Characterization of ZnO Thin Film by So-Gel Spin Coating Method for the Determination of Phosphate Buffer Saline Concentration. Malasyia : Institute of Nano Electronic Engineering, (online), Vol.9(2),(http://www.eurekaselect.c om), diakses tanggal 4 November 2014. Gayen, R N., Sarkar, N., Hussain, S., R Bhar & A K Pal. 2011 . ZnO Films Prepared by Modified Sol-Gel Technique, Vol.49,pp. 470-477, (Online),Vol.49:470-477, (http://nopr.niscair.res.in/bitstream) , diakses tanggal 19 November 2014. Hamidah, Nur., Rizkiana, Meta Fitri., Setyawan, Heru dan Samaudin Affandi.2012. Pelapisan Hidrofobik pada Kaca melalui Metode Sol-Gel dengan Precursor Waterglass. Vol.1 (1):1-4, Surabaya : Institut Teknologi Sepuluh Nopember (ITS). Hutabarat, Romaida. 2012. Sintesis dan Karakterisasi Fotokatalis Fe2+-ZnO Berbasis Zeolit Alam. Depok : Universitas Indonesia. Huang, Ding Jun and Tzong Shyng Leu. 2013. Fabrication of High Wettability Gradient on Copper Subtrate, (online),25-32, (http://www.iaa.ncku.edu.tw), diakses tanggal 30 April 2015.
DAFTAR PUSTAKA Abdullah, M.& Khairurrijal. 2009. Review Karakterisasi Nanomaterial. Jurnal Nanosains dan Teknologi Vol.2, No1 : Bandung. Alias, M.F.A., Aljarrah., Al-Lamy and K.A.W. Adem. 2013. Investigation the Effect of Thickness on the Structural and Optical Properties of Nano ZnO Films Prepared by d.c Magnetron Sputtering, (Online), Vol.2(7):100-106, (http://www.ijaiem.org), diakses pada tanggal 19 April 2015 Al-Attar, Aqeel Ali.,Hasony,Safaa M and Ali Hussein Ali. 2013. The Effect Of Spin Coating Speed and Deposition Parameters On The Crytalline Size of ZnO Thin Film, (Online), Vol.2 (7),(http://www.iasj.net/iasj), diakses tanggal 7 November 2014. Arif, M. 2011. Sintesis dan Karakterisasi Nanopartikel Zink Oksida (ZnO) dengan Metode Proses Pengendapan Kimia Basah dan Hidrotermal untuk Aplikasi Fotokatalisis. Depok. Bahadur, Harish., Srivastava, AK., Haranath, Divi., et al. 2007. NanoStructured ZnO Films by Sol-Gel Process, (online),Vol.45:395-399, (http://nopr.niscair.res.in/bitstream) , diakses tanggal 7 November 2014. Berestoc,T.O., Kurbatov, D.I., N.M. Opanasyuk., et al. 2013. Structural Properties of ZnO Thin Films Obtained by Chemical Bath Deposition Technique, (online), Vol. 5 No 1, (http://www. researchgate.net ), diakses pada tanggal 7 November 2014. Chen,C., J. Liu, P. Liu, B. Yu. 2011, 1,914. Investigation of Photocatalytic Degradation of Methyl Orange by Using Nano-Sized ZnO Catalyst. 8
Ilican, S., Caglar, Y and M. Caglar. 2008. Preparation and Characterization of ZnO Thin Films Deposited by Sol-Gel Spin Coating Method. (online), Vol.10, p.2578-2583, (http://www.isggzyjy.com) diakses tanggal 6 November 2014. Irianto, Sugeng Yuli. & Wasis. 2008. Ilmu Pengetahuan Alam : Optika. Jakarta: Pusat Perbukuan, Departemen Pendidikan Nasional. Jamaluddin.2010.X-RD(X-Ray Diffraction). Kendari: Fakultas Keguruan dan Ilmu pendidikan, Universitas Haluoleo. Jeyaprakash, B.G., Kumar, R. Ashok., Kesavan., Amalarani, A.2010. Structural and Optical Characterization of Spray Deposited SnS Thin Film, (online), Vol.6(3),(http://www.jofamericansc ience.org) diakses tanggal 14 Desember 2014. Kasuma, Nola Y. 2012. Penggunaan Komposit ZnO-CuO Yang Disintesis Secara Sonochemistry Yang Digunakan Sebagai Katalis Untuk Fotodegradasi Metil Orange Dan Zat Antibakteri. Padang : Universitas Andalas. Kenanakis, G., Vernandou, D., N. Katsarakis. 2011. Light Induced Self-Cleaning Properties of ZnO Nanowires Grown at Low Temperatures, (online), 7-4, (http://www.sciencedirect.com), diakses tanggal 4 November 2014. Kumar, Kitty. 2008. Preparation and Characterization of Spin-Coated Colloidal Templates and Patterned Electrodeposited Cobalt, (online), Vol.1(6):17-23, (http://www.physics.mun.ca),diakse s pada tanggal 14 Desember 2014. Lupan, O., Pauporte, T., Chow, L., Viana, B., Pelle , F., Ono, L.K, Cuenya,
B.Roldan., and H. Heinrich. 2009. Effects of Annealing on Properties of ZnO Thin Film Prepared by Electrochemical Deposition in Cloride medium, (online), (http://www. sciencedirect. com), diakses tanggal 6 November 2014. Monshi, Ahmad., Moh Reza Forough and Moh Reza Monshi. 2012. Modified Scherrer Equation to Estimate More Accurately Nano-Crystallite Size Using XRD, (online),2:154160, (http://www.SciRP.org/journal/wjn se), daiakses tanggal 19 April 2015 Nayak, Pradipta K., Yang, Jihoon., Kim, Jinwoo., Chung, Seungjun., Jaewook, Jeong., Lee, Changhee and Yongtaek Hong. 2009. SpinCoated Ga-doped ZnO transparent conducting Thin Films for Organic Light-EmitingDiodes, (online),Vol.42,(http://iopscience.io p.org), diakses pada tanggal 6 November 2014. Parekh Bipin, et al. (2007). Advance Photocatallytic Oxidation Techjiques for Purification of Immersion Lithography Water, (Online),(http://www.sematech.org) , The Material integrity management company. Pravita, Anggita R & Dahlan, Dahyunir. 2013. Sintesis Lapisan TiO2 Menggunakan Prekusor TiCl4 untuk Aplikasi Kaca Self Cleaning dan Anti Fogging.Vol 2. No 2. Padang: Universitas Andalas. Purwanto, R.; Prajitno, G. 2013. Variasi Kecepatan dan Waktu Pemutaran Spin Coating dalam Pelapisan TiO2 untuk Pembuatan dan Karakterisasi Prototipe DSSC dengan Ekstraksi Kulit Manggis (Garcinia Mangostana) sebagai
9
Dye Sensitizer. Surabaya : Institut Teknologi Sepuluh Nopember. Robergs, Robert A. 2010. Spectrophotometry,(online), (http://www.unm.edu/),diakses pada tanggal 30 April 2015. Rusu, D.I., G.G Rusu and D.Luca.2011.Structural Characteristics and Optical Properties of Thermally Oxidized Zinc Films, (online), (http://przyrbwn.icm.edu.pl), diakses pada tanggal 19 April 2015. Sanderson, K.D., Hurst,S., Mckittick,T., Rimmer,D and L.Ye.2006. Self Cleaning Glass-A Better Way to Keep Yor Window Clean, (online), (http://www.mbam.org.my), diakses 7 November 2014. Subedi, Deepak Prasad., Madhup, Dinesh Kumar., Sharma, Ashish., Joshi Ujjwal Man and Andrzej Huczko.2011. Study of the Wettability of ZnO Nanofilms.Vol.1,pp.117-122, (Online),(http://www.inljournal.co), diakses tanggal 13 November 2014. WilleyVCH,VerlagGmbh&KgaA.Weinhei m.2009.Zinc Oxide Fundamentals, Materials and Device Technology, (online),( http://www.wileyvch.def), diakses tanggal 19 April 2015. Yakuphanoglu,F.,S.Ilican., M. Caglar and Y. Caglar. 2007. The Determination of the Optical Band and Optical Constant of nonCrytalline and Crystalline ZnO thin Film Deposites by Spray Pirolysis, (online), Vop.9(7):21802185(http://www.researchgate.net/) , diakses tanggal 19 April
10
